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單片濕法刻蝕機
滿足半導體制造中濕法刻蝕工藝，單片加工，適用于SiO2，SiN，Polysilicon和各種金屬層的刻蝕，清洗等工藝流程。
型號： KS-S300-E 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:50:24 對比

濕法刻蝕
化合物半導體沉積系統(tǒng)
化合物半導體沉積系統(tǒng)用于研發(fā)的封閉耦合淋浴噴頭® CCS系統(tǒng)“用于研發(fā)和小規(guī)模生產的靈活MOCVD系統(tǒng)"
型號： CCS系統(tǒng) 所在地：德國參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:46:40 對比

MOCVD系統(tǒng)
濕法勻膠工作臺
Laurell的WS-1000MH系列微型濕法勻膠工作臺適用于更狹小的空間和較小的預算。這個簡單的工作站被提煉出真正的濕式工作站必須具備的精髓，以實現最大的經濟...
型號： WS-1000MH 所在地：美國參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:45:26 對比

半導體前道勻膠機
原子層沉積ALD
Beneq P800 專門設計用于涂覆復雜形狀的大零件或大批量的小零件。我們的客戶將 P800 用于光學鍍膜、半導體設備部件的防腐鍍膜，以及在玻璃或金屬板上使用...
型號： Beneq P80... 所在地：芬蘭參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:44:22 對比

ALD 原子層沉積
化合物半導體沉積系統(tǒng)
化合物半導體沉積系統(tǒng)“行星式反應器模塊，用于在150/200毫米襯底（Si/藍寶石/SiC）上應用氮化鎵，可提高生產率和晶圓性能"
型號： AIX G5+ C 所在地：德國參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:41:15 對比

半導體沉積
激光干涉儀
用于SENTECH Instruments等離子系統(tǒng)的SENTECH SLI激光干涉儀端點監(jiān)測器與聚焦的相干激光束一起工作。激光束穿過等離子系統(tǒng)的頂部視口，并被...
型號： SENTECH S... 所在地：德國參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:40:33 對比

SLI
原子層沉積ALD
Beneq P1500 是我們最大的原子層沉積系統(tǒng)，專門用于涂覆大型板材和復雜零件。它還用于為較小組件的批次提供更高的吞吐量。我們的客戶將 P1500 用于大直...
型號： Beneq P15... 所在地：芬蘭參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:39:39 對比

ALD 原子層沉積半導體 Beneq
硅芯清洗機
設備介紹:硅芯清洗機本設備為柜體式腐蝕機,整臺設備均采用進口件.基本材質:箱體材質:德國茲白色聚丙烯(PP) 門板材質:德國透明聚氯乙烯(PVC)腐蝕槽材質:德...
型號： customize... 所在地：南通市參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:36:33 對比

硅芯清洗機半導體英斯特
無掩模光刻機
μMLA無掩模光刻機是先進的無模板技術，建立在著名的 μPG 平臺之上，該平臺是臺式無模板系統(tǒng)。
型號： μMLA 所在地：德國參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:34:47 對比

微流控小規(guī)模掩模寫入微光學微透鏡陣列
掃描電鏡等離子清洗機
CIF掃描電鏡等離子清洗機采用遠程等離子清洗源設計，清洗快速、高效、低轟擊損傷，主要用于SEM或FIB等電鏡腔體內碳氫化合物的清洗。
型號： CIF-SEM 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:34:10 對比

等離子清洗機清洗機
高真空有機及熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)
產品概述：高真空有機及熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)主要由有機/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)；真空測量系統(tǒng)；蒸發(fā)源；樣品加熱控溫；電控系統(tǒng)；配氣系統(tǒng)等部分組成。設備用途...
型號： DZ350 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:33:48 對比

熱阻蒸發(fā)薄膜沉積
激光橢圓儀
SE 401adv 通過映射高達 200 毫米的液體單元、用于原位測量的液體單元、攝像機、自動對焦、模擬軟件和經過認證的標準晶圓，可根據您的需求進行調整。
型號： SENTECH S... 所在地：德國參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:31:47 對比

激光精密測量膜厚
晶片清洗機
英思特長期致力于半導體等行業(yè)干濕制程設備、自動供/排液系統(tǒng)、甩干機等設備的設計、生產、銷售及設備的優(yōu)化。期待與您的合作！
型號： customize... 所在地：南通市參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:31:17 對比

晶片清洗機半導體
原子層沉積ALD
Beneq TFS 200 是有史以來最靈活的原子層沉積研究平臺，專為學術研究和企業(yè)研發(fā)而設計。Beneq TFS 200 經過專門設計，可最大限度地減少多用戶...
型號： Beneq TFS... 所在地：芬蘭參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:29:26 對比

Beneq ALD 原子層沉積半導體
8英寸槽式清洗設備
WE2102系列 8英寸槽式清洗設備，該平臺工藝區(qū)為 12 吋先進槽式清洗設備的拓展，具備優(yōu)異的工藝效果。
型號： WE2102系列所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:29:19 對比

WE2102系列 8英寸槽式清洗設備北方華創(chuàng)
快速退火爐
快速退火爐，升溫速率高達 150 K/sec。
型號： RTP-100 所在地：德國參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:28:26 對比

半導體前道退火爐
光譜橢偏儀
SENTECH SER 800 PV光譜橢偏儀符合PERC、TOPCON、HJT和鈣鈦礦技術等新型太陽能電池技術的研發(fā)要求。它操作簡單，具有高測量靈敏度、去偏振...
型號： SENTECH S... 所在地：德國參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:28:12 對比

橢偏儀
芯片刻蝕機
ELEDE® 380系列芯片刻蝕機，先進的等離子體發(fā)生裝置，適用多種材料刻蝕，工藝窗口寬。
型號： ELEDE... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:26:03 對比

芯片刻蝕機 ELEDE® 380系列北方華創(chuàng)
MBE分子束外延系統(tǒng)
GENxplor® R&D MBE系統(tǒng)獲得了化合物半導體制造的CSindustry獎，采用Veeco成熟的3英寸生長室設計，并具工藝靈活性，非常適合U...
型號： GENxplor ... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:25:22 對比

分子束 MBE 薄膜沉積
全自動硅料清洗機
主要用于對硅材料行業(yè)中多晶硅塊進行清洗干燥處理
型號： customize... 所在地：南通市參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:24:44 對比

硅料清洗機全自動硅料清洗機 customized

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