1. 產(chǎn)品概述
WE2102系列 8英寸槽式清洗設(shè)備,該平臺工藝區(qū)為 12 吋先進(jìn)槽式清洗設(shè)備的拓展,具備優(yōu)異的工藝效果。
2. 設(shè)備用途/原理
該平臺工藝區(qū)為 12 吋先進(jìn)槽式清洗設(shè)備的拓展,具備優(yōu)異的工藝效果。精準(zhǔn)控制藥液混合比例。多樣的藥液比例擴(kuò)展應(yīng)用。精準(zhǔn)的蝕刻速率控制。優(yōu)秀的干燥效果。軟件量身定制,具備快速更新能力。
3. 設(shè)備特點(diǎn)
晶圓尺寸 8 英寸,適用材料 光阻、單晶硅、氧化硅、氮化硅、介質(zhì)膜、金屬膜、氮化鈦、硅化物。適用工藝 預(yù)清洗、去膠清洗、氮化硅去除、金屬去除(Co,Ti)、Recycle 清洗。適用域 集成電路、化合物半導(dǎo)體、新興應(yīng)用。