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8英寸多片硅外延系統(tǒng)
SES系列 8英寸多片硅外延系統(tǒng)為單腔多片式硅外延設備，適用于4、5、6、8英寸的硅外延工藝。SES系列反應腔室采用多片平板式的結構，配合感應加熱的方式實現(xiàn)高質...
型號： SES系列所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 11:25:47 對比

SES系列 8英寸多片硅外延系統(tǒng)多片硅外延系統(tǒng)北方華創(chuàng)
磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)
產(chǎn)品概述：磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結構，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。設備用途：用于...
型號： SMART 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2024/9/5 11:24:56 對比

磁控濺射薄膜沉積
無掩模直接成像儀光刻機
PG 300 DI 是一款體積圖案發(fā)生器，專為在 i 線光刻膠中直接寫入高分辨率微結構而設計。它源自掩模制作工具，具有所有先進的 VPG 系統(tǒng)組件，能夠以最高的...
型號： VPG 300 D... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/5 11:22:38 對比

高精度高分辨率
臥式減薄機
臥式減薄機是一款性價比很高的小型高精度研削設備，采用砂輪軸橫臥的安裝方式，手動裝片，通過砂輪進給控制研削量。設備工作臺可根據(jù)客戶需求進行定制化，應用廣泛。
型號： IHG-2010 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/5 11:21:12 對比

減薄機
分子束外延MBE
Veeco 的 GEN200® MBE 系統(tǒng)是當今市場上具成本效益和高容量的多 4 英寸生產(chǎn) MBE 系統(tǒng)。該系統(tǒng)在用于泵浦激光器、VCSEL 和 H...
型號： GEN200 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/5 11:20:54 對比

分子束外延 MBE 薄膜沉積
8英寸單片常壓/減壓硅外延系統(tǒng)
Esther/Eris 系列 8英寸單片常壓/減壓硅外延系統(tǒng)，傳輸系統(tǒng)和工藝模塊設計可兼容多種工藝用途，友好的人機交互和安全性設計保障系統(tǒng)穩(wěn)定、安全、高效，具有...
型號： Esther/Er... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 11:20:14 對比

Esther/Eris 系列 8英寸單片常壓/減壓硅外延系統(tǒng)單片常壓/減壓硅外延系統(tǒng)北方華創(chuàng)
磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)
產(chǎn)品概述：磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結構，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。設備用途：用于...
型號：線列式所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2024/9/5 11:19:19 對比

磁控濺射
薄膜計量光譜儀軟件
SpectraRay/4 是 SENTECH 專有的光譜橢圓偏振儀軟件，包括橢圓、反射和透射數(shù)據(jù)的數(shù)據(jù)采集、建模、擬合和擴展報告。它支持可變角度、多實驗和組合光...
型號： SpectraRa... 所在地：德國參考價：面議更新時間：2024/9/5 11:16:05 對比

計量軟件偏振光譜
12英寸減壓選擇性外延系統(tǒng)
Hesper Ⅱ E630R plus 12英寸減壓選擇性外延系統(tǒng)，多區(qū)紅外加熱協(xié)同激光微區(qū)補償，溫場均勻可控。
型號： Hesper Ⅱ ... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 11:15:58 對比

Hesper Ⅱ E630R plus 12英寸減壓選擇性外延系統(tǒng)減壓選擇性外延系統(tǒng)北方華創(chuàng)
全自動減薄機
全自動減薄機是一款功能全面，兼容性好，配置豐富，全自動系統(tǒng)的高精度研磨設備，全自動上下片，干進干出的全自動研削系統(tǒng)；自動厚度測量多段研削程序超負載等待；可磨...
型號： TFG-3200 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/5 11:13:22 對比

減薄機
晶圓貼片機
通用的XBS200平臺可以對尺寸最大為200毫米的晶圓進行對準的晶圓鍵合。它的多功能性和模塊化設計為所有的鍵合任務提供了最大的工藝靈活性。一種新穎的對準晶圓傳輸...
型號： XBS200 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/5 11:11:52 對比

SUCC 晶圓貼片
12英寸單片常壓硅外延系統(tǒng)
Hesper E230A 12英寸單片常壓硅外延系統(tǒng)，優(yōu)異的氣流場和加熱場設計提供優(yōu)良的工藝性能。
型號： Hesper E2... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 11:09:06 對比

單片常壓硅外延系統(tǒng)Hesper E230A 單片常壓硅外延系統(tǒng)北方華創(chuàng)
便攜式示波器
便攜式示波器某些測試要求使用更便攜、可堆疊的儀器進行專業(yè)級測量。但是，您不能為了外形尺寸而犧牲品質。是德科技的 USB 精簡便攜系列手持和模塊化示波器可隨時...
型號： USB 系列所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/5 11:08:57 對比

示波器
分子束外延薄膜沉積系統(tǒng)
分子束外延薄膜沉積系統(tǒng)MBE 8000旨在滿足對高性能化合物半導體器件日益增長的需求。這種在超高壓環(huán)境中使用超純金屬的 8×6? 或 4×8...
型號： MBE 8000 所在地：法國參考價：面議更新時間：2024/9/5 11:08:56 對比

RIBER MBE 里博分子束外延系統(tǒng)
薄膜計量紅外光譜橢圓儀
SENTECH SENDIRA 專為紅外（FTIR）而設計。這款緊湊的臺式儀器包括吹掃橢偏儀光學元件、計算機控制的測角儀、水平樣品平臺、自動準直望遠鏡、商用...
型號： SENTECH S... 所在地：德國參考價：面議更新時間：2024/9/5 11:08:43 對比

紅外光譜薄膜計量
多腔等離子體工藝系統(tǒng)
多腔等離子體工藝系統(tǒng)-概述：1.方案是適用于最大 8 吋晶圓的多腔等離子體沉積/刻蝕工藝系統(tǒng)2.系統(tǒng)可用于研發(fā)和小批量生產(chǎn)3.系統(tǒng)兼容 8 吋、6 吋、4 吋、...
型號： customize... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/5 11:07:29 對比

Plasma Pro等離子體工藝系統(tǒng)
勻膠機
laurell的WS-650-23B型勻膠機結構緊湊，具有先進的功能。這款650系列涂布機系統(tǒng) 將可容納最大150mm晶圓和5英寸×5英寸（127m...
型號： WS-650-23... 所在地：美國參考價：面議更新時間：2024/9/5 11:07:17 對比

半導體前道勻膠機
分子束外延MBE
GEN2000® MBE 系統(tǒng)提供吞吐量、更長的活動周期、更小的占地面積和集群工具晶圓處理。它是 HBT 和 pHEMT 等無線通信設備大批量生產(chǎn)以及...
型號： GEN2000 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/5 11:05:13 對比

分子束外延 MBE 薄膜沉積
IVG系列-全/半自動單/雙軸減薄機
半自動單軸減薄機是一款操作簡單、功能豐富、性價比高的高精度研削設備，采用手動裝片方式，配置自動厚度測量和補償系統(tǒng)，可自動研削至目標值。工作臺可根據(jù)客戶需求進行定...
型號：所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 11:04:05 對比

減薄機全自動半導體單雙軸半自動
12英寸單片減壓硅外延系統(tǒng)
Hesper I E430R 12英寸單片減壓硅外延系統(tǒng)，優(yōu)異的氣流場和加熱場設計提供優(yōu)良的工藝性能。
型號： Hesper I ... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 11:03:21 對比

Hesper I E430R 外延系統(tǒng)

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