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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司

  • PEARD系統(tǒng)

    SENTECH SILAYO是一種用于光學(xué)鍍膜的等離子體增強(qiáng)原子層沉積（PEALD）系統(tǒng)，擴(kuò)展了SENTECH PECVD和ALD產(chǎn)品組合。SENTECH SI...
    型號(hào)： SENTECH S... 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/8/12 10:25:06 對(duì)比

  • 投影步進(jìn)電機(jī)

    AP200/300 系列光刻系統(tǒng)基于 Veeco 的可定制 Unity 平臺(tái)™構(gòu)建，可提供覆蓋層、分辨率和側(cè)壁輪廓性能，并可實(shí)現(xiàn)高度自動(dòng)化和具有成本...
    型號(hào)： AP200/300 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/8/12 10:21:06 對(duì)比

  • Lancer離子束蝕刻系統(tǒng)

    新型 Lancer™ 離子束蝕刻 （IBE） 系統(tǒng)專(zhuān)為開(kāi)發(fā)和生產(chǎn)智能手機(jī)、自動(dòng)駕駛汽車(chē)和其他可實(shí)現(xiàn)連接性、功能性和移動(dòng)性的“物聯(lián)網(wǎng)"設(shè)備中的下一代電...
    型號(hào)： 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/8/12 10:20:00 對(duì)比

  • 原子層刻蝕

    ALE是一種先進(jìn)的刻蝕技術(shù)，可以針對(duì)較淺的微結(jié)構(gòu)進(jìn)行出色的深度控制。 隨著器件微結(jié)構(gòu)尺寸越來(lái)越小，要達(dá)到器件的更高性能可以通過(guò)ALE技術(shù)所具有的精度來(lái)實(shí)現(xiàn)。在如...
    型號(hào)： PlasmaPro... 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/8/12 10:19:40 對(duì)比

  • 等離子體蝕刻系統(tǒng)

    SI 500 C 代表了專(zhuān)為低溫蝕刻而設(shè)計(jì)的電感耦合等離子體 （ICP） 處理的前沿。SENTECH SI 500 C 低溫 ICP-RIE 等離子體蝕刻系統(tǒng)代...
    型號(hào)： SI 500 C 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/8/12 10:19:16 對(duì)比

  • 等離子蝕刻系統(tǒng)

    SENTECH SI 500 ICP-RIE等離子體蝕刻系統(tǒng)使用具有低離子能量的電感耦合等離子體 （ICP） 源，可實(shí)現(xiàn)低損傷蝕刻和納米結(jié)構(gòu)。
    型號(hào)： SENTECH S... 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/8/12 10:18:54 對(duì)比

  • 開(kāi)蓋等離子蝕刻系統(tǒng)

    等離子蝕刻系統(tǒng) Etchlab 200 具有經(jīng)濟(jì)高效的 RIE 直接加載的優(yōu)點(diǎn)。SENTECH Etchlab 200 RIE等離子蝕刻系統(tǒng)代表了一系列直接加載...
    型號(hào)： Etchlab 2... 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/8/12 10:18:30 對(duì)比

  • ICPCVD

    PlasmaPro 80是一種結(jié)構(gòu)緊湊且使用方便的小型直開(kāi)式系統(tǒng)，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置，便于使用，且能夠確保工藝性能。直開(kāi)式設(shè)計(jì)可實(shí)現(xiàn)...
    型號(hào)： PlasmaPro... 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/8/12 10:13:43 對(duì)比

  • 離子束沉積

    離子束沉積產(chǎn)品是因?yàn)樗鼈兡軌蛏a(chǎn)具有高質(zhì)量，致密和表面光滑的沉積薄膜。離子束技術(shù)提供了一種多樣的刻蝕和沉積的方法，并可在同一設(shè)備上實(shí)現(xiàn)， 因而提高系統(tǒng)的利用率。...
    型號(hào)： Ionfab 30... 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/8/12 10:12:56 對(duì)比

  • 激光光刻機(jī)

    DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 激光光刻系統(tǒng)是快速、靈活的高分辨率圖形發(fā)生器。它們針對(duì)工業(yè)級(jí)灰度光刻進(jìn)行了優(yōu)化，設(shè)計(jì)用于集成電路、MEMS、...
    型號(hào)： DWL 2000 ... 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/8/12 10:10:05 對(duì)比

  • ICPECVD 系統(tǒng)

    電感耦合等離子體 （ICP） 沉積系統(tǒng)，SENTECH SI 500 D 用于介電膜的高密度、低離子能量和低壓等離子體沉積，以及用于鈍化層的低損傷、低溫沉積。S...
    型號(hào)： SI 500 D 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/8/12 10:09:28 對(duì)比

  • 涂膠與顯影機(jī)

    ACS300 Gen2 涂布機(jī)和顯影劑用于晶圓級(jí)封裝的生產(chǎn)旋涂/開(kāi)發(fā)集群ACS300 Gen2 是一個(gè)模塊化集群系統(tǒng)，旨在滿(mǎn)足制造商對(duì) 200 和 300 毫米...
    型號(hào)： ACS300 Ge... 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/8/12 10:01:51 對(duì)比
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