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當前位置：深圳市矢量科學儀器有限公司>>半導體前道工藝設備>>5 刻蝕設備>> KS-S300-E單片濕法刻蝕機
| 參 考 價: | 面議 |
產(chǎn)品型號KS-S300-E
品牌芯源
廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
所在地沈陽市
更新時間：2024-09-05 14:50:24瀏覽次數(shù)：158次
聯(lián)系我時，請告知來自 化工儀器網(wǎng)1. 產(chǎn)品概述
滿足半導體制造中濕法刻蝕工藝，單片加工，適用于SiO2，SiN，Polysilicon和各種金屬層的刻蝕，清洗等工藝流程。
2. 產(chǎn)品優(yōu)勢
利用位置、速度可控的擺臂噴灑化學液，可以有效的提高刻蝕均勻性
分層式反應腔體設計，可以在同一腔體中噴灑多種化學液，并能有效回收，節(jié)約化學液
疊層控制，占地面積小，多可配置4個刻蝕單元
3. 應用域：
半導體制造中濕法刻蝕工藝
封裝域中金屬層刻蝕，滿足UBM及RDL工藝要求
OLED 域中金屬及金屬氧化物（ITO/IGZO）刻蝕、緩沖層成膜的表面（SiO2）刻蝕清洗等工藝
滿足半導體制造中濕法刻蝕工藝，單片加工，適用于SiO2，SiN，Polysilicon和各種金屬層的刻蝕，清洗等工藝流程。
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