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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司

濕法勻膠工作臺(tái)

參  考  價(jià):面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號(hào)WS-1000MH

品牌Laurell

廠商性質(zhì)經(jīng)銷商

所在地美國(guó)

更新時(shí)間:2024-09-05 14:45:26瀏覽次數(shù):233次

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Laurell的WS-1000MH系列微型濕法勻膠工作臺(tái)適用于更狹小的空間和較小的預(yù)算。這個(gè)簡(jiǎn)單的工作站被提煉出真正的濕式工作站必須具備的精髓,以實(shí)現(xiàn)最大的經(jīng)濟(jì)性。

1. 尺寸

24英寸(寬)x433/8英寸(深)x741/4英寸(高)(61.0厘米(寬x110.04厘米(深)x188.60厘米(高)

2. 特征

所有聚丙烯結(jié)構(gòu)(WS-1000MH-WPP                                  均提供自熄功能

適合安裝任何Laurell旋轉(zhuǎn)處理器

穿孔濕甲板(易于拆卸)                          

濕式增壓室

帶儀表的排氣增壓室

下方是用于加熱器、泵、容器的隔離組件/抽屜(顯示抽屜型號(hào))

可提供不帶通風(fēng)柜的通風(fēng)柜,以滿足更溫和的工藝要求

3. 選項(xiàng)

觸摸屏控制界面

觀看LaurellTouch演示視頻

處理器排氣聯(lián)鎖和控制(某些型號(hào)標(biāo)配)

通過(guò)壓力容器物料攪拌(磁性)

化學(xué)加熱

沖洗至電阻率

排水分流器                        

真空裝載棒                

晶圓盒支架

泄漏檢測(cè)

燈塔                        

如有需要,可提供高材料

阻燃選項(xiàng)



有掩膜光刻機(jī)

1.手動(dòng)、半自動(dòng)、全自動(dòng)有掩膜光刻機(jī)$r$n2.高分辨率掩模對(duì)準(zhǔn)光刻,

無(wú)掩膜/激光直寫(xiě)光刻機(jī)

無(wú)掩膜/激光直寫(xiě)光刻機(jī) 參數(shù):1. 光源:375 nm、385 nm、

電子束光刻系統(tǒng)

電子束光刻系統(tǒng) 技術(shù)參數(shù):$r$n1.最小線寬≤8nm 光柵周期

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