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深圳市矢量科學儀器有限公司

  • 部件鍍膜設備

    部件鍍膜設備是在真空狀態(tài)下在產(chǎn)品外部涂層非導電體的Coating設備，由真空內(nèi)產(chǎn)品做著自傳，公轉(zhuǎn),并能保持一定的膜厚度.
    型號： KaRon 設備 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 15:41:20 對比

  • 回流焊爐

    RSS-210-S 回流焊系統(tǒng)是一種非常緊湊且易于使用的工具，適用于實驗室和潔凈室作為桌面單元。腔室是真空密封的，并配有觀察窗。這允許對焊接過程進行視圖控制。該...
    型號： RSS-210-S 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 15:40:32 對比

  • 12英寸立式低溫退火爐

    THEORIS A302L 12英寸立式低溫退火爐，先進的壓力控制系統(tǒng),高精度溫度場控制技術。
    型號： THEORIS A... 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 15:39:22 對比

  • 卷對卷薄膜濺射系統(tǒng)

    卷對卷薄膜濺射系統(tǒng)是在真空狀態(tài)下用于micro phone的厚度為4u Film的Gold(AU)做Sputtering的設備.
    型號： Roll to R... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 15:35:17 對比

  • 12英寸單片清洗設備

    Saqua SC3080A系列 12英寸單片清洗設備。
    型號： Saqua SC3... 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 15:34:10 對比

  • 超聲波掃描顯微鏡

    PVA TePla SAM系列的超聲波掃描顯微鏡使用簡單，操作方便，是一款用于過程控制和質(zhì)量保證，以及研究應用的無損檢測設備。SAM系列旗下各型號均統(tǒng)一由一個符...
    型號： SAM 所在地：美國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 15:33:21 對比

  • 金屬有機化學氣相沉積

    Propel HVM GaN MOCVD 系統(tǒng)，用于電源、5G 射頻和光子學，單晶圓反應器技術為電源、5G 射頻和光子學應用提供高效、高質(zhì)量的氮化鎵基器件
    型號： Propel HV... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 15:28:38 對比

  • 12英寸槽式清洗設備

    WE3102系列 12英寸槽式清洗設備，可配備 i-Clean 多藥液工藝槽，支持 DN unit, DIO3 等附屬功能。
    型號： WE3102系列 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 15:28:23 對比

  • ALD

    Beneq Transform 300 是一個高度通用的制造平臺，面向致力于 CIS、電源、Micro-OLED/LED、先進封裝和其他 MtM 應用的 IDM...
    型號： Beneq Tra... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 15:22:26 對比

  • 去膠清洗機

    英思特長期致力于半導體等行業(yè)干濕制程設備、自動供/排液系統(tǒng)、甩干機等設備的設計、生產(chǎn)、銷售及設備的優(yōu)化。期待與您的合作！
    型號： customize... 所在地：南通市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 15:20:00 對比

  • ALD

    Beneq Prodigy™ 是 VCSEL、LED 和 MEMS 制造商和代工廠的理想制造解決方案，他們希望通過經(jīng)濟實惠的獨立 ALD 批處理工具...
    型號： Beneq Pro... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 15:19:11 對比

  • 回流焊爐

    真空回流焊爐，適用于最大 300 x 300 mm 的基板尺寸和高達 450 °C 的溫度
    型號： VSS-300 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 15:12:48 對比

  • 卷對卷薄膜濺射系統(tǒng)

    卷對卷薄膜濺射系統(tǒng)裝置在真空狀態(tài)中對PET Film，以ITO或Metal Coating的設備, Heating, Plasma Etching, Sputt...
    型號： KaRoll RT... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 15:10:21 對比

  • 回流焊爐

    真空回流焊爐，適用于最大 300 x 300 mm 的基板尺寸和高達 450 °C 的溫度和高達 10E-6 hPa 的高真空。
    型號： VSS-300-H... 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 15:09:21 對比

  • 回流焊爐

    技術參數(shù)工藝室由鋁制成適用于最大 300 mm x 300 mm 的基板尺寸腔室高度： 70 mm正面觀察窗（可見孔徑：寬 270 mm，高 30 mm）集成氣...
    型號： VSS-450-3... 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 15:07:31 對比

  • 原子層沉積

    Beneq Transform在其多功能性和適應性方面建立了全新的ALD集群工具產(chǎn)品，以滿足廣泛的應用和細分市場的需求。Beneq Transform 配置多個...
    型號： Beneq 轉(zhuǎn)換 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 15:03:31 對比

  • 硅片腐蝕清洗機

    英思特長期致力于半導體等行業(yè)干濕制程設備、自動供/排液系統(tǒng)、甩干機等設備的設計、生產(chǎn)、銷售及設備的優(yōu)化。期待與您的合作！
    型號： customize... 所在地：南通市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 14:59:45 對比

  • Beneq C2R--空間原子層沉積ALD

    Beneq C2R 將等離子體增強原子層沉積 （PEALD） 工藝提升到一個全新的水平 – PEALD 可用于大批量生產(chǎn)。由于采用等離子體增強旋轉(zhuǎn)原子層沉積工藝...
    型號： 所在地：芬蘭 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 14:56:52 對比

  • 碳化硅沉積系統(tǒng)

    碳化硅沉積系統(tǒng)G10-碳化硅150 mm 和 200 mm – 支持雙晶圓尺寸 – 為您的未來投資提供保障市場上最高的晶圓產(chǎn)量 / m2市場上晶圓出色的運行過程...
    型號： G10-碳化硅 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 14:54:54 對比

  • 原子層沉積ALD

    Beneq P400A 專為以優(yōu)化的批量大小涂覆不同類型的基材而設計 - 足夠大以提供顯著的容量，但又足夠小以在批次和較短的循環(huán)時間內(nèi)保持出色的均勻性。我們的客...
    型號： Beneq P40... 所在地：芬蘭 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 14:50:57 對比
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