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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司

  • CIF 生產(chǎn)型等離子清洗機(jī)

    CIF 生產(chǎn)型等離子清洗機(jī)是為研發(fā)型客戶和工業(yè)級客戶而設(shè)計(jì)的等離子體表面處理設(shè)備,配置豐富,且真空腔體里可分層,適合大多數(shù)生產(chǎn)場景。適用于等離子清洗,活化以及刻...
    型號: CPC15/35/... 所在地:北京市 參考價(jià): 面議 更新時間:2024/9/10 15:05:09 對比
  • 原子層沉積研究設(shè)備

    Beneq TFS 200 是有史以來最靈活的原子層沉積研究平臺,專為學(xué)術(shù)研究和企業(yè)研發(fā)而設(shè)計(jì)。Beneq TFS 200 經(jīng)過專門設(shè)計(jì),可最大限度地減少多用戶...
    型號: TFS 200 所在地:芬蘭 參考價(jià): 面議 更新時間:2024/9/10 14:46:09 對比
  • 掃描式光刻機(jī)

    1、Nikon S207D掃描式光刻機(jī)光源波長248nm分辨率優(yōu)于0.11µm主要用于8寸及12寸生產(chǎn)線廣泛應(yīng)用于化合物半導(dǎo)體、MEMS、LED等領(lǐng)域...
    型號: Nikon S20... 所在地:日本 參考價(jià): 面議 更新時間:2024/9/7 10:06:14 對比
  • 掃描式光刻機(jī)

    1、Nikon S208D掃描式光刻機(jī)光源波長248nm分辨率優(yōu)于0.11µm主要用于8寸及12寸生產(chǎn)線廣泛應(yīng)用于化合物半導(dǎo)體、MEMS、LED等領(lǐng)域...
    型號: Nikon S20... 所在地:國外 參考價(jià): 面議 更新時間:2024/9/7 9:56:55 對比
  • 深硅刻蝕機(jī)

    深硅刻蝕機(jī)PSE V300主要用于12英寸深硅刻蝕,同時兼具Bosch/Non-Bosch工藝,實(shí)現(xiàn)多工藝領(lǐng)域覆蓋。該機(jī)臺針對Bosch循環(huán)工藝方式采用專業(yè)先進(jìn)...
    型號: PSE V300 所在地:深圳市 參考價(jià): 面議 更新時間:2024/9/6 21:53:24 對比
  • 化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)CMP

    化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)CMP簡介:1. 該化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)可用于各類半導(dǎo)體集成電路、氧化物、金屬、STI、SOI等產(chǎn)品的CMP平坦化拋光。 通過更換拋光頭可兼容4、6、8...
    型號: customize... 所在地:國外 參考價(jià): 面議 更新時間:2024/9/6 17:04:26 對比
  • 劃片機(jī)

    精密劃片機(jī),劃片機(jī)簡介:半導(dǎo)體晶圓、集成電路、QFN、發(fā)光二極管、LED芯片、太陽能電池、電子基片等的劃切,適用于包括硅、石英、陶瓷、氧化鋁、氧化鐵、砷化鎵、鈮...
    型號: customize... 所在地:深圳市 參考價(jià): 面議 更新時間:2024/9/6 16:50:42 對比
  • CMP后清洗機(jī)

    CMP后清洗機(jī) 簡介:該系列設(shè)備是晶圓CMP后的專用清洗設(shè)備,有單工位、轉(zhuǎn)位式、連線式等不同結(jié)構(gòu),以適用不同應(yīng)用場景,其中連線式設(shè)備加配全自動上下片系統(tǒng)。該系列...
    型號: customize... 所在地:國外 參考價(jià): 面議 更新時間:2024/9/6 16:48:45 對比
  • 自動光學(xué)檢查系統(tǒng)

    自動光學(xué)檢查系統(tǒng) 簡介:全自動AOI系統(tǒng)可獲取目標(biāo)表面高分辨率圖像,并根據(jù)用戶標(biāo)準(zhǔn)執(zhí)行光學(xué)檢測。例如,激光二極管的端面檢查,鍍膜的質(zhì)量監(jiān)控,表面檢查,半導(dǎo)體芯片...
    型號: customize... 所在地:深圳市 參考價(jià): 面議 更新時間:2024/9/6 16:48:29 對比
  • 回流焊爐

    回流焊爐簡介:1. 應(yīng)用領(lǐng)域:無助焊劑焊接;倒裝芯片焊接;鍵合;Bump回流焊接;微電子封裝;功率器件焊接;晶圓熱處理;工藝研發(fā);質(zhì)量控制2. 加熱區(qū)域:4、6...
    型號: customize... 所在地:深圳市 參考價(jià): 面議 更新時間:2024/9/6 16:42:10 對比
  • 減薄機(jī)

    減薄機(jī) 簡介:1. 可根據(jù)客戶需求定制化各類工作臺,滿足各類半導(dǎo)體材料的研削薄化工藝2. 最大晶圓尺寸:8英寸3. 砂輪規(guī)格:Ø203(OD)mm4....
    型號: customize... 所在地:深圳市 參考價(jià): 面議 更新時間:2024/9/6 16:35:54 對比
  • 共晶爐

    德國UNITEMP真空共晶爐、燒結(jié)爐,緊湊臺式設(shè)計(jì),可在氮?dú)?甲酸等氛圍操作,廣泛用于激光、射頻電路、功率器件等微電子光電子行業(yè)的晶粒貼裝,以及金-硅合金,密集...
    型號: customize... 所在地:深圳市 參考價(jià): 面議 更新時間:2024/9/6 16:34:03 對比
  • 半導(dǎo)體研磨拋光機(jī)

    半導(dǎo)體研磨拋光機(jī)是一款操作簡單的桌面型單面拋光設(shè)備,可搭配銅盤、錫盤、玻璃盤、不銹鋼盤等,配合不同類型的拋光液,適用于各種半導(dǎo)體材料的研磨拋光,滿足科研院校、企...
    型號: customize... 所在地:德國 參考價(jià): 面議 更新時間:2024/9/6 16:28:32 對比
  • 掃描電鏡SEM

    掃描電鏡SEM簡介:FE-SEM獲得的圖像分辨率高,信息豐富,樣品處理相對簡單,并且它可以觀察、測量并分析樣品的細(xì)微結(jié)構(gòu),因此被廣泛應(yīng)用于納米技術(shù)、半導(dǎo)體、電子...
    型號: 所在地:深圳市 參考價(jià): 面議 更新時間:2024/9/6 16:26:49 對比
  • 透射電鏡TEM

    透射電鏡TEM 介紹:1. 配備了高靈敏度sCMOS相機(jī)、超廣視野的蒙太奇系統(tǒng)以及光學(xué)顯微鏡圖像的聯(lián)動功能,是一款新型的高通量、高分辨率 的120kV透射電子顯...
    型號: customize... 所在地:深圳市 參考價(jià): 面議 更新時間:2024/9/6 16:24:26 對比
  • 聚焦離子束系統(tǒng)FIB

    聚焦離子束系統(tǒng)FIB是將離子源產(chǎn)生的離子束經(jīng)過離子槍加速,聚焦后作用于樣品表面,應(yīng)用于:產(chǎn)生二次電子信號取得電子像,此功能與SEM相似,用強(qiáng)電流離子束對表面原子...
    型號: customize... 所在地:深圳市 參考價(jià): 面議 更新時間:2024/9/6 16:21:07 對比
  • 中央供藥系統(tǒng)

    中央供藥系統(tǒng)簡介:1.用于廠內(nèi)供藥,通過該系統(tǒng)可以按照設(shè)定的配比,將特定的藥液通過相應(yīng)的管路供應(yīng)到制程中。2.該系統(tǒng)供藥配比精確,配方可根據(jù)客戶需要進(jìn)行編輯確認(rèn)...
    型號: customize... 所在地:蘇州市 參考價(jià): 面議 更新時間:2024/9/6 16:19:03 對比
  • 晶圓甩干機(jī)

    1.是高潔凈度的沖洗旋干設(shè)備。主要系應(yīng)用于硅晶圓、掩模板、太陽能電池等材料的高潔凈度沖洗旋干。設(shè)備具有單工作室、雙工作室兩種結(jié)構(gòu)。2.產(chǎn)品類型:有立式單腔,雙腔...
    型號: customize... 所在地:無錫市 參考價(jià): 面議 更新時間:2024/9/6 16:13:48 對比
  • 光學(xué)輪廓儀

    光學(xué)輪廓儀是一款用于對各種精密器件及材料表面進(jìn)行亞納米級測量的檢測儀器。它是以白光干涉技術(shù)為原理、結(jié)合精密Z向掃描模塊、3D 建模算法等對器件表面進(jìn)行非接觸式掃...
    型號: customize... 所在地:深圳市 參考價(jià): 面議 更新時間:2024/9/6 16:11:11 對比
  • 全自動SCRUBBER清洗機(jī)

    全自動SCRUBBER清洗機(jī) 簡介:?清洗機(jī)可以用于對晶圓表面,背面及晶圓邊緣的清洗,通過創(chuàng)新研發(fā)的二流體噴嘴技術(shù)可將附著在晶圓表面的細(xì)微顆粒污染物去除。通過大...
    型號: customize... 所在地:上海市 參考價(jià): 面議 更新時間:2024/9/6 16:07:41 對比

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