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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司

  • 噴涂膠機(jī)

    在噴涂法中，噴嘴將要涂抹的溶液噴在晶圓上。經(jīng)過(guò)優(yōu)化后的晶圓上方噴嘴移動(dòng)路徑可以實(shí)現(xiàn)在襯底上均勻的涂層。 噴涂所用的液體通常粘度極低，以確保形成細(xì)小的液滴
    型號(hào)： AS8 所在地：德國(guó) 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/6 15:03:11 對(duì)比

  • 有掩膜光刻機(jī)

    1.手動(dòng)、半自動(dòng)、全自動(dòng)有掩膜光刻機(jī)2.高分辨率掩模對(duì)準(zhǔn)光刻，特征尺寸優(yōu)于0.5微米3.基片尺寸可滿足4、6、8、12英寸4.經(jīng)過(guò)特殊設(shè)計(jì)，方便處理各種非標(biāo)準(zhǔn)基...
    型號(hào)： MA12 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/6 14:10:06 對(duì)比

  • 臨時(shí)鍵合機(jī)

    XBS300臨時(shí)膠合劑適用于大批量生產(chǎn)的通用型臨時(shí)鍵合機(jī)SUSS MicroTec的XBS300臨時(shí)鍵合平臺(tái)是新一代用于大批量生產(chǎn)的臨時(shí)鍵合機(jī)解決方案。200/...
    型號(hào)： XBS300 所在地：國(guó)外 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/6 11:08:34 對(duì)比

  • BA Gen4 鍵合機(jī)

    BA Gen4 鍵合機(jī)在鍵合過(guò)程中精確對(duì)準(zhǔn)，鍵合對(duì)準(zhǔn)器 BA Gen4 Series 是專為手動(dòng)對(duì)準(zhǔn)并鍵合兩個(gè) 200 毫米以下晶圓而設(shè)計(jì)的。選配掩模對(duì)準(zhǔn)器工具...
    型號(hào)： BA Gen4 S... 所在地：國(guó)外 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/6 10:59:58 對(duì)比

  • 解鍵合機(jī)

    LD12 解鍵合機(jī)模塊進(jìn)一步補(bǔ)充了 SUSS MicroTec 公司基于激光的晶片處理產(chǎn)品組合。其基本原理是使用高能量密度和低脈沖持續(xù)時(shí)間的準(zhǔn)分子Ji Guan...
    型號(hào)： LD12 所在地：國(guó)外 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/6 10:55:37 對(duì)比

  • 投影掃描光刻機(jī)

    SUSS MicroTec公司推出了其下一代投影掃描光刻機(jī)‐DSC300投影掃描光刻機(jī)。這種專有的掃描光刻平臺(tái)擁有三位數(shù)的產(chǎn)能，并達(dá)到解析度（ 2 μm）的分辨...
    型號(hào)： DSC300 所在地：國(guó)外 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/6 9:53:56 對(duì)比

  • 清洗設(shè)備

    SUSS MicroTecs ASx 系列為加工掩模和 250 nm 至 90 nm 技術(shù)節(jié)點(diǎn)提供了先進(jìn)的烘烤、顯影和清潔方法。其可靠性、穩(wěn)定性和高性能使平臺(tái)能...
    型號(hào)： ASx 系列 所在地：國(guó)外 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/6 9:37:45 對(duì)比

  • 晶圓貼片機(jī)

    SB6/8 Gen2 晶圓貼片機(jī)晶圓鍵合工藝的萬(wàn)能設(shè)備SUSS MicroTec 公司的 SB6/8e 提供一種適合各種鍵合工藝的半自動(dòng)平臺(tái)。SB6/8e 可以...
    型號(hào)： SB6/8 Gen... 所在地：國(guó)外 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/5 17:40:49 對(duì)比

  • 掩膜版清洗系統(tǒng)

    掩模的完整性對(duì)高標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝的成功起主要作用。MaskTrack Pro 掩膜清洗處理系統(tǒng)滿足下一代光刻節(jié)點(diǎn)在掩模清洗、烘烤和顯影工藝方面的所有標(biāo)準(zhǔn)。它是應(yīng)對(duì) ...
    型號(hào)： MaskTrack... 所在地：國(guó)外 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/5 11:39:14 對(duì)比

  • 晶圓貼片機(jī)

    通用的XBS200平臺(tái)可以對(duì)尺寸最大為200毫米的晶圓進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)的晶圓鍵合。它的多功能性和模塊化設(shè)計(jì)為所有的鍵合任務(wù)提供了最大的工藝靈活性。一種新穎的對(duì)準(zhǔn)晶圓傳輸...
    型號(hào)： XBS200 所在地：國(guó)外 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/5 11:11:52 對(duì)比

  • 通用晶圓鍵合平臺(tái)

    通用晶圓鍵合平臺(tái)設(shè)計(jì)用于（混合）熱鍵合對(duì)準(zhǔn)的200mm和300mm晶圓。 其高度模塊化的設(shè)計(jì)便于客戶以低擁有成本來(lái)實(shí)現(xiàn)極大的配置靈活性。 提供多種配置，可滿足研...
    型號(hào)： XBS300 所在地：國(guó)外 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/5 10:55:41 對(duì)比

  • 晶圓鍵合機(jī)

    新型的 XBC300 Gen2 D2W/W2W晶圓鍵合機(jī) 是將所有現(xiàn)有混合鍵合工藝集成到單一設(shè)備中的平臺(tái)： W2W、集體 D2W 和順序 D2W。這是蘇斯微技術(shù)...
    型號(hào)： XBC300 Ge... 所在地：國(guó)外 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/5 9:42:26 對(duì)比

  • 測(cè)量系統(tǒng)

    DSM8/200 Gen2測(cè)量系統(tǒng)用于研發(fā)和大量產(chǎn)的對(duì)準(zhǔn)測(cè)量SUSS DSM為廣泛的應(yīng)用和基板提供從正面到反面的測(cè)量。測(cè)量結(jié)果詳細(xì)列出了了偏移矢量的各個(gè)分量：平...
    型號(hào)： DSM8/200 ... 所在地：國(guó)外 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/5 9:38:20 對(duì)比

  • 掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)

    掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)是用于 300 mm 和 200 mm 晶圓的高度自動(dòng)化掩模對(duì)準(zhǔn)平臺(tái)。SUSS MicroTec 的 MA300 Gen3 是一款高度自動(dòng)化的掩模...
    型號(hào)： MA300 Gen... 所在地：國(guó)外 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/5 9:31:21 對(duì)比

  • 鍵合對(duì)準(zhǔn)機(jī)

    鍵合對(duì)準(zhǔn)機(jī)BA Gen4 是專為手動(dòng)對(duì)準(zhǔn)并鍵合兩個(gè) 200 毫米以下晶圓而設(shè)計(jì)的。選配掩模對(duì)準(zhǔn)器工具后還可使用各種功能。BA Gen4 Series 用于先進(jìn)封...
    型號(hào)： BA Gen4 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/5 9:25:43 對(duì)比

  • 掩膜自動(dòng)處理系統(tǒng)

    掩模的完整性對(duì)高標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝的成功起主要作用。MaskTrack Pro 掩膜自動(dòng)處理系統(tǒng)滿足下一代光刻節(jié)點(diǎn)在掩模清洗、烘烤和顯影工藝方面的所有標(biāo)準(zhǔn)。它是應(yīng)對(duì) ...
    型號(hào)： MaskTrack... 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/5 9:14:28 對(duì)比

  • 掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)

    MA200 3代掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)專為大批量生產(chǎn)而設(shè)計(jì)，適用于200毫米以下晶圓和方形襯底的自動(dòng)化加工。本系統(tǒng)集全場(chǎng)光刻技術(shù)與多種創(chuàng)新功能于一身。使其成為眾多應(yīng)用的...
    型號(hào)： MA200 Gen... 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/8/27 9:37:26 對(duì)比

  • 掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)

    SUSS MicroTec為熱門化合物半導(dǎo)體工藝專門設(shè)計(jì)了一款新型光刻平臺(tái)：MA100/150e Gen2掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)。化合物半導(dǎo)體工藝，是指諸如高亮發(fā)光二極...
    型號(hào)： MA100/150... 所在地：國(guó)外 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/8/27 9:36:10 對(duì)比

  • 涂膠和顯影機(jī)

    ACS200 Gen3 涂膠和顯影機(jī)是創(chuàng)新組件和經(jīng)過(guò)生產(chǎn)驗(yàn)證的組件結(jié)合的成功結(jié)果。它具有多達(dá) 4 個(gè)濕法工藝模塊和最多 19 塊板的能力，非常適合大批量生產(chǎn) （...
    型號(hào)： ACS200 Ge... 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/8/27 9:30:44 對(duì)比

  • 涂膠與顯影機(jī)

    ACS300 Gen3作為模塊化系統(tǒng)，是為滿足量產(chǎn)環(huán)境而專門設(shè)計(jì)的。它提供了復(fù)雜的涂膠、顯影和烘烤功能，可輕松地適應(yīng)各種工藝。其的工藝控制，有效地支持廣泛的使用...
    型號(hào)： ACS300 Ge... 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/8/12 10:46:36 對(duì)比
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