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CMP后清洗機
CMP后清洗機簡介：該系列設(shè)備是晶圓CMP后的專用清洗設(shè)備，有單工位、轉(zhuǎn)位式、連線式等不同結(jié)構(gòu)，以適用不同應(yīng)用場景，其中連線式設(shè)備加配全自動上下片系統(tǒng)。該系列...
型號： customize... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 16:48:45 對比

CMP后清洗機干法清洗設(shè)備干法工藝設(shè)備 G＆P
全自動SCRUBBER清洗機
全自動SCRUBBER清洗機簡介：?清洗機可以用于對晶圓表面，背面及晶圓邊緣的清洗，通過創(chuàng)新研發(fā)的二流體噴嘴技術(shù)可將附著在晶圓表面的細微顆粒污染物去除。通過大...
型號： customize... 所在地：上海市參考價：面議更新時間：2024/9/6 16:07:41 對比

全自動清洗機濕法清洗設(shè)備 customized
紫外線臭氧清洗機
UV-300H是一款高性能的緊湊型紫外線臭氧清洗機。通過滑動抽屜將基材裝入系統(tǒng)中。紫外線照射、高濃度臭氧和階段性加熱的組合，可溫和而有效地去除硅、玻璃、化合物半...
型號： UV-300H 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 15:39:31 對比

紫外線臭氧清洗機 UV-300H SAMCO
紫外線臭氧清洗機
UV-1是一款緊湊型臺式紫外線臭氧清洗機。該系統(tǒng)將紫外線照射、臭氧和平臺加熱結(jié)合在一起，溫和而有效地去除硅、玻璃、化合物半導(dǎo)體（GaN、GaAs、InP、SiC...
型號： UV-1 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 15:30:45 對比

紫外線臭氧清洗機 UV-1 SAMCO
等離子清洗設(shè)備
PC-300等離子清洗設(shè)備是一種平行板式等離子清洗機，用于清洗樣品表面的有機和無機污染。該工藝室允許用戶安裝多個電架，架式電配置的靈活性支持從研究到小批量生產(chǎn)的...
型號： PC-300 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 15:27:23 對比

等離子清洗設(shè)備 PC-300 SAMCO
晶片清洗機
本機是一款全自動晶片刷洗機，全程封閉環(huán)境采用機械手自動操作，具備刷洗甩干功能，適用于各種半導(dǎo)體襯底材料拋光后的刷洗，可有效減少晶片表面顆粒污染。
型號： TWB-200 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/6 11:38:32 對比

CMP
CMP后清洗機
該系列設(shè)備是碳化硅晶圓拋光后的專用清洗設(shè)備，采用連線式結(jié)構(gòu)，設(shè)備加配全自動上下片系統(tǒng)。該系列設(shè)備配有漂洗、雙面刷洗、兆聲清洗、N2吹干、高速甩干功能，集成度高，...
型號： TSC-150C/... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/6 11:22:51 對比

CMP后清洗
CMP后清洗機
該系列設(shè)備是晶圓CMP后的專用清洗設(shè)備，有單工位、轉(zhuǎn)位式、連線式等不同結(jié)構(gòu)，以適用不同應(yīng)用場景，其中連線式設(shè)備加配全自動上下片系統(tǒng)。該系列設(shè)備配有漂洗、雙面刷洗...
型號： TSC-100/3... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/6 11:15:58 對比

CMP
大氣式等離子清潔系統(tǒng)
PlasmaPen™ 是PVA TePla的大氣式等離子清潔系統(tǒng)，可滿足各種表面處理要求，如表面清潔及表面活化。
型號： PlasmaPen... 所在地：美國參考價：面議更新時間：2024/9/6 10:54:52 對比

半導(dǎo)體前道清洗
單片式化學(xué)清洗機
KS-CM300/200 單片式化學(xué)清洗機適用于沉積前清洗、蝕刻后清洗、離子注入后清洗、CMP后清洗等多種前段工藝（FEOL）和后段工藝（BEOL）清洗進程，可...
型號： KS-CM300/... 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2024/9/6 10:21:11 對比

清洗設(shè)備
晶圓濕法清洗工作臺
WaferStorm平臺是先進封裝、MEMS、射頻、數(shù)據(jù)存儲和光子學(xué)市場中許多關(guān)鍵溶劑型工藝的行業(yè)選擇。有 2 個版本——手動加載（ML）和 3300 系列...
型號： 3300系列所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 10:05:35 對比

晶圓清洗清洗設(shè)備
清洗設(shè)備
SUSS MicroTecs ASx 系列為加工掩模和 250 nm 至 90 nm 技術(shù)節(jié)點提供了先進的烘烤、顯影和清潔方法。其可靠性、穩(wěn)定性和高性能使平臺能...
型號： ASx 系列所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 9:37:45 對比

SUSS 清洗設(shè)備研磨
條形等離子清潔系統(tǒng)
80 Plus 條形等離子清潔系統(tǒng)專為半導(dǎo)體加工而開發(fā)，可支持手動及自動操作，兩種操作方式均簡單易用。該系統(tǒng)可以配備或不配備裝卸站；此外，每個裝卸站都可支持不同...
型號： 80 Plus 所在地：美國參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:05:42 對比

半導(dǎo)體前道清洗
透射電鏡樣品桿清洗機
CIF透射電鏡樣品桿清洗機采用遠程離子清洗源設(shè)計，清洗快速高效，低轟擊損傷，同時可實現(xiàn)常規(guī)等離子清洗。主要用于TEM透射電鏡樣品桿的等離子體清洗和真空檢漏。
型號： CIF-TEM 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/5 15:46:29 對比

清洗機透射電鏡樣品桿清洗機
12英寸單片清洗設(shè)備
Saqua SC3080A系列 12英寸單片清洗設(shè)備。
型號： Saqua SC3... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 15:34:10 對比

12英寸單片清洗設(shè)備 Saqua SC3080A系列北方華創(chuàng)
12英寸槽式清洗設(shè)備
WE3102系列 12英寸槽式清洗設(shè)備，可配備 i-Clean 多藥液工藝槽，支持 DN unit, DIO3 等附屬功能。
型號： WE3102系列所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 15:28:23 對比

WE3102系列 12英寸槽式清洗設(shè)備北方華創(chuàng)
硅片腐蝕清洗機
英思特長期致力于半導(dǎo)體等行業(yè)干濕制程設(shè)備、自動供/排液系統(tǒng)、甩干機等設(shè)備的設(shè)計、生產(chǎn)、銷售及設(shè)備的優(yōu)化。期待與您的合作！
型號： customize... 所在地：南通市參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:59:45 對比

清洗機腐蝕清洗機硅片腐蝕
硅芯清洗機
設(shè)備介紹:硅芯清洗機本設(shè)備為柜體式腐蝕機,整臺設(shè)備均采用進口件.基本材質(zhì):箱體材質(zhì):德國茲白色聚丙烯(PP) 門板材質(zhì):德國透明聚氯乙烯(PVC)腐蝕槽材質(zhì):德...
型號： customize... 所在地：南通市參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:36:33 對比

硅芯清洗機半導(dǎo)體英斯特
晶片清洗機
英思特長期致力于半導(dǎo)體等行業(yè)干濕制程設(shè)備、自動供/排液系統(tǒng)、甩干機等設(shè)備的設(shè)計、生產(chǎn)、銷售及設(shè)備的優(yōu)化。期待與您的合作！
型號： customize... 所在地：南通市參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:31:17 對比

晶片清洗機半導(dǎo)體
8英寸槽式清洗設(shè)備
WE2102系列 8英寸槽式清洗設(shè)備，該平臺工藝區(qū)為 12 吋先進槽式清洗設(shè)備的拓展，具備優(yōu)異的工藝效果。
型號： WE2102系列所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:29:19 對比

WE2102系列 8英寸槽式清洗設(shè)備北方華創(chuàng)

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