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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司

  • 科瓦普物理氣相沉積平臺(tái)

    科瓦普物理氣相沉積平臺(tái)COVAP PVD 為許多過(guò)程應(yīng)用提供了緊湊、經(jīng)濟(jì)且仍然強(qiáng)大的解決方案。專為需要安全可靠的工具的實(shí)驗(yàn)室而設(shè)計(jì),該工具可在緊湊的占地面積內(nèi)生...
    型號(hào): COVAP 所在地:加拿大 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/5 17:34:37 對(duì)比
  • 鈣鈦礦專用涂膜機(jī)

    鈣鈦礦專用涂膜機(jī),配備4.3寸全彩觸屏,操作便捷。采用硬質(zhì)陽(yáng)極氧化鋁面板,帶真空吸附,確保涂膜穩(wěn)定。精準(zhǔn)控制移動(dòng)速率,提高涂膜重復(fù)性。可選配多種涂膜工具,適應(yīng)不...
    型號(hào): PF200-H 所在地:深圳市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/5 17:34:07 對(duì)比
  • 單晶爐

    直拉法晶體生長(zhǎng)系統(tǒng)SC 24單晶爐專為單晶硅晶體(硅錠)的工業(yè)生產(chǎn)而研發(fā)。該系統(tǒng)的模塊化設(shè)計(jì)理念可根據(jù)客戶的需求而進(jìn)行靈活的調(diào)整。低能耗優(yōu)化設(shè)計(jì)的24英寸熱系統(tǒng)...
    型號(hào): SC24 所在地:美國(guó) 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/5 17:33:42 對(duì)比
  • 碳化硅高溫氧化爐

    VERIC A6151A 碳化硅高溫氧化爐,適用于碳化硅高溫激活 & 退火的設(shè)備,最高溫度 2000℃,升溫速率可達(dá) 100℃/min,石墨電阻加熱,工藝腔室潔...
    型號(hào): VERIC A61... 所在地:北京市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/5 17:32:05 對(duì)比
  • 固體蠟貼片機(jī)

    固體蠟貼片機(jī)(貼蠟機(jī))是一款高精度桌上型貼片機(jī),采用手動(dòng)涂蠟&放片方式,具有加熱和冷卻功能,自動(dòng)壓片,蠟層均勻。可升級(jí)真空貼片功能,先抽真空再熱壓冷卻,貼片效果...
    型號(hào): TWB-1150S 所在地:深圳市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/5 17:27:38 對(duì)比
  • 單晶爐

    直拉法晶體生長(zhǎng)系統(tǒng)CGS1218單晶爐,專為符合半導(dǎo)體行業(yè)的嚴(yán)格要求而設(shè)計(jì)。該系統(tǒng)采用模塊化設(shè)計(jì),且可以配置鋼絲軟軸或硬軸。配合特殊的晶體軸配置能夠達(dá)到最高的精...
    型號(hào): CGS1218 所在地:美國(guó) 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/5 17:26:40 對(duì)比
  • 單晶爐

    CGS-Lab單晶爐是PVA產(chǎn)品線中最小的直拉法晶體生長(zhǎng)系統(tǒng),專門為研究所和實(shí)驗(yàn)室設(shè)計(jì)。10 英寸熱系統(tǒng)的設(shè)計(jì)用于最多 5 公斤的加料量和生長(zhǎng)直徑為 100 毫...
    型號(hào): CGS Lab 所在地:美國(guó) 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/5 17:23:55 對(duì)比
  • 8英寸立式爐

    FLOURIS 201系列 8英寸立式爐,高精度溫度場(chǎng)控制技術(shù),可實(shí)現(xiàn) 1200℃ 內(nèi)氧化退火工藝。
    型號(hào): FLOURIS 2... 所在地:北京市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/5 17:22:58 對(duì)比
  • 部件鍍膜設(shè)備

    部件鍍膜設(shè)備KaLine 8V是在真空狀態(tài)中向產(chǎn)品外部涂層非導(dǎo)體的設(shè)備,在真空內(nèi)產(chǎn)品做自空傳,由能保持一定的膜厚度構(gòu)成的.
    型號(hào): KaLine 8V 所在地:國(guó)外 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/5 17:21:20 對(duì)比
  • IoN系列等離子清洗去膠系統(tǒng)

    IoN系列等離子清洗去系統(tǒng)具有多種射頻電源選項(xiàng),可滿足客戶的特定工藝和產(chǎn)量要求。 我們提供不同腔體和電極配置,最大腔體可達(dá) 1200 升。
    型號(hào): IoN 10Q 所在地:美國(guó) 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/5 17:21:13 對(duì)比
  • 實(shí)驗(yàn)型勻膠機(jī)

    實(shí)驗(yàn)型勻膠機(jī) 技術(shù)參數(shù):1.適用基片尺寸:小于1cm小碎片及到8寸標(biāo)準(zhǔn)晶圓,非標(biāo)準(zhǔn)基片可定制載物盤2.自動(dòng)滴膠功能3.支持去邊、背洗、勻膠、顯影、清洗、控溫等功...
    型號(hào): customize... 所在地:深圳市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/5 17:20:10 對(duì)比
  • AE物理氣相沉積平臺(tái)

    AE物理氣相沉積平臺(tái)Nexdep PVD在經(jīng)濟(jì)性和多功能性之間取得了平衡。它可以配備強(qiáng)大的工藝增強(qiáng)功能,而不會(huì)占用實(shí)驗(yàn)室的所有空間或預(yù)算。您的研究目標(biāo)、生產(chǎn)需求...
    型號(hào): NEXDEP 所在地:加拿大 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/5 17:18:04 對(duì)比
  • 12英寸金屬刻蝕機(jī)

    NMC 612G 12英寸金屬刻蝕機(jī),可用于鋁、硅,氧化物、鉬、氧化銦錫等多種材料刻蝕。
    型號(hào): NMC 612G 所在地:北京市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/5 17:18:00 對(duì)比
  • 去膠機(jī)

    適用于半導(dǎo)體及LED芯片制造領(lǐng)域中的光刻膠去除、金屬剝離等工藝制程。
    型號(hào): KS-S150-4... 所在地:沈陽(yáng)市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/5 17:16:52 對(duì)比
  • 高密度 刻蝕機(jī)

    GDE C200系列 高密度 刻蝕機(jī),等離子體源和頻率設(shè)計(jì),等離子體密度高,適用于強(qiáng)鍵合材料刻蝕。
    型號(hào): GDE C200系... 所在地:北京市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/5 17:13:09 對(duì)比
  • 無(wú)掩模對(duì)光刻機(jī)

    無(wú)掩模對(duì)光刻機(jī) MLA 300 提供高吞吐量、簡(jiǎn)化的工作流程以及與制造執(zhí)行系統(tǒng) (MES) 的集成。該工具用于生產(chǎn)傳感器和傳感器 IC、MEMS 和微流體器件。...
    型號(hào): MLA 300 所在地:德國(guó) 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/5 17:12:35 對(duì)比
  • Amod物理氣相沉積平臺(tái)

    Angstrom Engineering 的 Amod PVD 平臺(tái)是一款物理氣相沉積系統(tǒng),Amod物理氣相沉積平臺(tái)開始允許更大的腔室投射距離,并能夠適應(yīng)更多的...
    型號(hào): 所在地:加拿大 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/5 17:10:22 對(duì)比
  • 部件鍍膜設(shè)備

    部件鍍膜設(shè)備實(shí)現(xiàn)高大量生產(chǎn)率的高真空基礎(chǔ)In-line Sputter - 1Carrier/20Sheet(A4 Size)產(chǎn)品 Loading可以,以In-...
    型號(hào): For Half ... 所在地:國(guó)外 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/5 17:09:58 對(duì)比
  • 程控烤膠機(jī)

    LEBO science HP100-SE程控烤膠機(jī),7寸觸屏PLC控,硬質(zhì)陽(yáng)極氧化鋁面板,優(yōu)異性能,專業(yè)服務(wù),實(shí)驗(yàn)理想之選。
    型號(hào): HP100-SE標(biāo)... 所在地:南京市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/5 17:09:54 對(duì)比
  • EvoVac 物理氣相沉積平臺(tái)

    EvoVac PVD 平臺(tái)可以做任何您需要的事情。它有一個(gè)大腔室,可以配備您需要的任何源或工藝增強(qiáng)。EvoVac 物理氣相沉積平臺(tái)是我們具有可定制性的單腔室平臺(tái)...
    型號(hào): 埃沃維克 所在地:加拿大 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/5 17:07:57 對(duì)比

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