1.產(chǎn)品概述：
Beneq C2R 將等離子體增強(qiáng)原子層沉積 （PEALD） 工藝提升到一個(gè)全新的水平 – PEALD 可用于大批量生產(chǎn)。由于采用等離子體增強(qiáng)旋轉(zhuǎn)原子層沉積工藝，Beneq C2R 是厚原子層沉積膜的理想選擇，甚至可達(dá)幾微米。
2.產(chǎn)品配置:
Beneq C2R 具有基于 Brooks Automation 值得信賴的 MX400 傳輸模塊的自動(dòng)化選項(xiàng)。
自動(dòng)化服務(wù)包括：
Brooks MX400 基于集群的模塊
雙臂掃地機(jī)器人
樣品對(duì)準(zhǔn)器
可選預(yù)熱和冷卻
3.產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)：
超高沉積速率，高達(dá)每小時(shí)幾微米
批量 PEALD 工藝，適用于多達(dá) 7 個(gè) 200 mm 晶圓
適用于厚度達(dá) 30 mm 的鏡頭和其他 3D 基板
膜厚均勻性高，適用于要求苛刻的光學(xué)鍍膜應(yīng)用
可配備負(fù)載鎖或晶圓自動(dòng)化
化工儀器網(wǎng)