1. 產(chǎn)品概述：

主要適用于對(duì) 2 英寸至 8 英寸的硅片進(jìn)行腐蝕清洗，以滿足半導(dǎo)體制造等相關(guān)領(lǐng)域?qū)杵砻嫣幚淼膰?yán)格要求 

2. 設(shè)備應(yīng)用：

顯影制程，蝕刻（微蝕刻）制程，去光阻清洗制程，去蠟（膠）清洗制程，精密清洗制程，光罩去光阻清洗制程

3. 設(shè)備特點(diǎn)：

適用對(duì)象：藍(lán)寶石晶片、砷化鎵晶片、碳化硅晶片、其它襯底基片       

基本規(guī)格： 機(jī)臺(tái)封面 聚丙烯磁白PP板材（厚度≧10mm）Or China SUS板材（厚度≧2mm）機(jī)臺(tái)主機(jī)強(qiáng)度結(jié)構(gòu)  整體骨架表面噴涂處理Or China SUS矩形材（厚度≧2mm）機(jī)臺(tái)視窗透明、抗靜電之聚氯乙烯PVC（厚度≧5mm） Or  China 鋼化玻璃（厚度≧5mm）

選配模塊： 1.腐蝕液恒溫系統(tǒng) 

                  2.腐蝕液循環(huán)過(guò)濾系統(tǒng)  

                  3.超（兆）聲系統(tǒng)  

                  4.全自動(dòng)供液系統(tǒng)

                  5.更全面的全自動(dòng)烘干系統(tǒng) 

                  6.消防系統(tǒng) 

                  7.可結(jié)合客戶端通訊協(xié)定資料儲(chǔ)存、CIM系統(tǒng)、資料分析儲(chǔ)存建立管理

機(jī)臺(tái)特點(diǎn)： 1.蝕刻工藝自動(dòng)補(bǔ)藥液保證了工藝槽在運(yùn)行過(guò)程中濃度的穩(wěn)定性

                  2.QDR沖洗模塊非常見(jiàn)排序式，可根據(jù)制程工藝設(shè)定

                  3.集成自動(dòng)烘干系統(tǒng)

                  4.管路系統(tǒng)、電氣控制系統(tǒng)、伺服電機(jī)及絲杠導(dǎo)軌等關(guān)鍵核心部件均采用進(jìn)口標(biāo)準(zhǔn)產(chǎn)品，配置模組化，維護(hù)保修便利，非期貨庫(kù)存品工廠內(nèi)均建立安全存                      量

                  5.全自動(dòng)化控制，幾何曲線加減速運(yùn)動(dòng)，沖擊小，運(yùn)動(dòng)平穩(wěn)，機(jī)械臂定位精度高

                  6.多級(jí)別用戶工藝數(shù)據(jù)庫(kù)，可供用戶使用和存儲(chǔ)

                  7.作業(yè)區(qū)內(nèi)有害氣體多種安全主動(dòng)及被動(dòng)保護(hù)相結(jié)合，保證操作人員作業(yè)環(huán)境及人聲安全

                  8.客制化設(shè)計(jì)能力佳，高設(shè)計(jì)能力滿足客戶制程工藝需要

機(jī)械臂裝置：Robo的工藝路徑種N種（設(shè)備出廠前載入PLC內(nèi)）

                    機(jī)械手傳送定位精度≦ 0.3mm   

                    機(jī)械臂走向前后位移一對(duì)一

                    轉(zhuǎn)向、前后、左右、上下位移一對(duì)四

                    全程轉(zhuǎn)向左右、前后、上下位移一對(duì)多槽等