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掃描式光刻機
1、Nikon S203B掃描式光刻機光源波長248nm分辨率優(yōu)于0.2µm主要用于4寸、6寸及8寸生產(chǎn)線廣泛應(yīng)用于化合物半導(dǎo)體、MEMS、LED等領(lǐng)...
型號： Nikon S20... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/4 14:57:44 對比

Nikon S203B掃描式光刻機掃描式光刻機光刻機
掃描式光刻機
1、Nikon S204B掃描式光刻機光源波長248nm分辨率優(yōu)于0.18µm主要用于4寸、6寸及8寸生產(chǎn)線廣泛應(yīng)用于化合物半導(dǎo)體、MEMS、LED等...
型號： Nikon S20... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/4 14:52:39 對比

Nikon S204B掃描式光刻機掃描式光刻機光刻機
CMP
G&P旗下的GNP POLI-PCB系列CMP主要運用于研發(fā)，操作簡單，成本低。
型號： GNP POLI-... 所在地：韓國參考價：面議更新時間：2024/9/4 14:47:51 對比

半導(dǎo)體濕法化學(xué)機械拋光
物理氣相沉積PVD
Veeco 的單靶點 NEXUS PVDi 物理氣相沉積系統(tǒng)為各種薄膜沉積應(yīng)用提供了最大的靈活性。NEXUS PVD 的加工精度為 200 毫米，具有先進的工藝...
型號： NEXUS 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/4 14:42:13 對比

物理氣相沉積 PVD 薄膜沉積
掃描式光刻機
1、Nikon S205C掃描式光刻機光源波長248nm分辨率優(yōu)于0.15µm主要用于8寸及12寸生產(chǎn)線廣泛應(yīng)用于化合物半導(dǎo)體、MEMS、LED等領(lǐng)域...
型號： Nikon S20... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/4 14:39:34 對比

Nikon S205C掃描式光刻機掃描式光刻機光刻機
12英寸立式中高溫氧化爐
12英寸立式中高溫氧化爐THEORIS X302H主要用于12英寸1000℃-1200℃高溫和超高溫氧化和退火工藝。該機臺為立式單腔爐管系統(tǒng)，工藝處理過程實現(xiàn)了...
型號： THEORIS X... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/4 14:34:33 對比

THEORIS X302H/P 12英寸立式中高溫氧化爐北方華創(chuàng)
掃描式光刻機
1、Nikon S206D掃描式光刻機光源波長248nm分辨率優(yōu)于0.12µm主要用于8寸及12寸生產(chǎn)線廣泛應(yīng)用于化合物半導(dǎo)體、MEMS、LED等領(lǐng)域...
型號： Nikon S20... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/4 14:33:53 對比

Nikon S206D掃描式光刻機掃描式光刻機光刻機
Optium 劃片機
Veeco 在多元化切割應(yīng)用方面擁有 30 多年的經(jīng)驗，提供廣泛的工藝和工具設(shè)計解決方案，可以提高產(chǎn)量并帶來更高的產(chǎn)量和質(zhì)量。
型號： Optium AD... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/4 14:28:29 對比

半導(dǎo)體封裝劃片
液體蠟貼片機
固體蠟貼片機（貼蠟機）是一款高精度桌上型貼片機，采用手動涂蠟&放片方式，具有加熱和冷卻功能，自動壓片，蠟層均勻。可升級真空貼片功能，先抽真空再熱壓冷卻，貼片效果...
型號： TLB-360A/... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/4 14:22:13 對比

貼片機
掃描式光刻機
1、Nikon S308F掃描式光刻機光源波長193nm分辨率優(yōu)于0.07µm主要用于4寸、6寸、8寸及12寸生產(chǎn)線廣泛應(yīng)用于化合物半導(dǎo)體、MEMS、...
型號： Nikon S30... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/4 14:14:45 對比

Nikon S308F掃描式光刻機掃描式光刻機光刻機
高級研磨機
使用 Veeco 的 Optium® ASL 200™ 研磨系統(tǒng)實現(xiàn)更高水平的控制和 TFMH 工藝產(chǎn)量。這種高精度硬盤頭研磨系統(tǒng)可大程度...
型號： Optium AS... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/4 14:13:50 對比

研磨機晶圓研磨
全自動液體蠟貼片機
該系列設(shè)備適用來鍵合晶片到載具（襯底，陶瓷盤等），操作簡單，搭配不同夾具可實現(xiàn)不同尺寸，不同厚度晶片的鍵合。該系列設(shè)備具有兩種模式，半自動和全自動模式。半自動液...
型號： TLB-360FM... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/4 14:11:01 對比

貼片機
步進式光刻機
1、Canon FPA3000 EX4步進式光刻機光源波長248nm分辨率優(yōu)于0.25µm主要用于主要用于4寸、6寸、8寸生產(chǎn)線廣泛應(yīng)用于化合物半導(dǎo)體...
型號： Canon FPA... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/4 14:01:48 對比

Canon FPA3000 EX4步進式光刻機步進式光刻機光刻機
CT系統(tǒng)
Comet Yxlon開發(fā)了CTScan 3線探測器陣列（LDA），以滿足客戶的特殊要求和具有挑戰(zhàn)性的應(yīng)用。憑借其前未有的信噪比、動態(tài)范圍和 254 μm 的像...
型號： FF系列所在地：德國參考價：面議更新時間：2024/9/4 14:01:39 對比

缺陷檢查 CT掃描
CT系統(tǒng)
無論是大型電機缸體、大型鋼制部件還是復(fù)雜的電動汽車部件，Comet Yxlon UX50 CT 系統(tǒng)都能在創(chuàng)紀(jì)錄的時間內(nèi)掃描具挑戰(zhàn)性的物品。UX50 在線和平板...
型號： UX系列所在地：德國參考價：面議更新時間：2024/9/4 11:46:37 對比

工業(yè)CT 缺陷檢查
高真空電子束及熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)
產(chǎn)品概述：高真空電子束及熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)主要由蒸發(fā)真空室、E型電子槍、熱阻蒸發(fā)組件、旋轉(zhuǎn)基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測量、安裝機臺及電控系統(tǒng)等部分組...
型號： DZS500 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2024/9/4 11:32:00 對比

電子束蒸發(fā)鍍膜沈陽科儀
勻膠機
CIF勻膠機轉(zhuǎn)速穩(wěn)定、啟動迅速，旋涂均勻，操作簡單，結(jié)構(gòu)緊湊實用，為實驗室提供了理想的解決方案。廣泛應(yīng)用于微電子、半導(dǎo)體、新能源、化工材料、生物材料、光學(xué)，硅片...
型號： MSC/SC1/2 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/2 17:12:57 對比

CIF勻膠機勻膠機
烤膠機
CIF烤膠機采用智能程序化控溫技術(shù)，控溫精準(zhǔn)均勻，加熱快速高效，維修簡單方便，控溫范圍在室溫－360℃之間，控溫精度達到0.1℃。適用于各種控溫精度高，加熱均勻...
型號： PH22/35/2... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/2 17:12:27 對比

CIF烤膠機烤膠機
等離子去膠機
CIF等離子去膠機采用電感耦合各向同性（各個方向）等離子激發(fā)方式，適用于所有的基材及復(fù)雜的幾何構(gòu)形都可以進行等離子體去膠。其外觀美學(xué)設(shè)計，結(jié)構(gòu)緊湊，漂亮大氣，...
型號： SPB-5/plu... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/2 17:10:10 對比

等離子去膠機去膠機
反應(yīng)離子刻蝕機
CIF推出RIE反應(yīng)離子刻蝕機，采用RIE反應(yīng)離子誘導(dǎo)激發(fā)方式，實現(xiàn)對材料表面各向異性的微結(jié)構(gòu)刻蝕。特別適合于大學(xué)，科研院所、微電子、半導(dǎo)體企業(yè)實驗室進行介質(zhì)刻...
型號： RIE200/Pl... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/2 17:08:20 對比

反應(yīng)離子刻蝕機刻蝕機

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