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一、產(chǎn)品介紹：等離子清洗設(shè)備在材料學(xué)，光學(xué)，電子學(xué)，醫(yī)藥學(xué)，環(huán)境學(xué)、生物學(xué)等科研領(lǐng)域，主要用于材料表面進(jìn)行清洗、活化、改性等目的

一、產(chǎn)品介紹CIF透射電鏡（TEM）樣品桿清洗機(jī)采用遠(yuǎn)程離子清洗源設(shè)計(jì)，清洗快速高效，低轟擊損傷，同時(shí)可實(shí)現(xiàn)常規(guī)等離子清洗

v清洗機(jī)可以用于對(duì)晶圓表面，背面及晶圓邊緣的清洗，通過創(chuàng)新研發(fā)的二流體噴嘴技術(shù)可將附著在晶圓表面的細(xì)微顆粒污染物去除，實(shí)現(xiàn)高效去除

v該系列設(shè)備是晶圓CMP后的專用清洗設(shè)備，有單工位、轉(zhuǎn)位式、連線式等不同結(jié)構(gòu)，以適用不同應(yīng)用場(chǎng)景，其中連線式設(shè)備加配全自動(dòng)上下片系統(tǒng)

v機(jī)器電源：100~240VAC,50/60Hz,單相v電機(jī)功率：1Hp[750W]v磨盤直徑：8in[203mm],10in[254mm]v磨盤轉(zhuǎn)速：10~5...

v該化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)可用于各類半導(dǎo)體集成電路、氧化物、金屬、STI、SOI等產(chǎn)品的CMP平坦化拋光

v半導(dǎo)體研磨拋光機(jī)是一款操作簡(jiǎn)單的桌面型單面拋光設(shè)備

概述：沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)軟件控制系統(tǒng)；4英寸鍍膜區(qū)域內(nèi)片內(nèi)膜厚不均勻性...

v分子束外延，是在超高真空系統(tǒng)中把所需要的結(jié)晶材料放入到噴射爐中，將噴射爐加熱

vKeysightN1000ADCA-X寬帶寬示波器可以對(duì)50Mb/s到224Gb/s的高速數(shù)字設(shè)計(jì)執(zhí)行精準(zhǔn)測(cè)量

v兼容200mm以下所有尺寸的晶圓

vM9484CVXG是是德科技款矢量信號(hào)發(fā)生器，在每個(gè)通道上提供2.5GHz調(diào)制帶寬，能夠生成高達(dá)54GHz的信號(hào)

vKeysightM8199A任意波形發(fā)生器（AWG）擁有4個(gè)128GSa/s采樣率的通道

vAstrella提供更好的數(shù)據(jù)并降低整體數(shù)據(jù)成本

v應(yīng)用領(lǐng)域：Pillar

v應(yīng)用領(lǐng)域：RCA清洗

v應(yīng)用范圍：對(duì)重?fù)诫s碳化硅（SiC）表面沉積的過渡金屬進(jìn)行退火

vKeysightN5511A相位噪聲測(cè)試系統(tǒng)（PNTS）的量程達(dá)到kl（-177dBm/Hz），讓您可以執(zhí)行物理極限測(cè)量

v滿足各種產(chǎn)品、零部件及材料在高溫恒溫環(huán)境下貯存、運(yùn)輸、使用時(shí)間適應(yīng)性試驗(yàn)要求