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分子束外延薄膜沉積系統(tǒng)MBE

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更新時(shí)間:2024-10-22 16:59:30瀏覽次數(shù):58次

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v分子束外延,是在超高真空系統(tǒng)中把所需要的結(jié)晶材料放入到噴射爐中,將噴射爐加熱

v 分子束外延,是在超高真空系統(tǒng)中把所需要的結(jié)晶材料放入到噴射爐中,將噴射爐加熱。使結(jié)晶材料形成分子束,從爐中噴出后,沉積在溫度保持在幾的單晶基片上。如果設(shè)置幾個(gè)噴射爐,就可以制取多元半導(dǎo)體混晶,又可以同時(shí)進(jìn)行摻雜??梢跃_地控制結(jié)晶生長,進(jìn)行沉積系統(tǒng)中結(jié)晶生長過程的研究

v 12個(gè)源爐:鎵、銦、鋁、砷、銻、磷、鉍、硅、鎂、摻雜等

v 襯底:4inch

v 溫度:1000°C 溫度均勻性:≤±3°C4inch

v 超高真空下全自動(dòng)樣品轉(zhuǎn)移

v 用于過程控制和分析的所有現(xiàn)代現(xiàn)場監(jiān)控功能

v 一個(gè)集群上最多7個(gè)超高真空功能單元:裝載、儲(chǔ)存、翻轉(zhuǎn)、處理、排氣、生長,外部腔室

v 可連接其他分析設(shè)備或其他:ALD、PLDPVD、金屬化、STM......

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