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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司

  • 化合物半導(dǎo)體沉積系統(tǒng)

    化合物半導(dǎo)體沉積系統(tǒng)AIX G5 WW C“下一代碳化硅電力電子器件的最佳性能，以應(yīng)對(duì)全球大趨勢(shì)"高吞吐量批量外延與單晶圓控制 - 兩全其美。
    型號(hào)： AIX G5 WW... 所在地：德國(guó) 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/8/13 11:12:18 對(duì)比

  • 等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積

    PlasmaPro 100 Nano用于生長(zhǎng)1D / 2D納米材料和異質(zhì)結(jié)構(gòu)的CVD / PECVD工具。 PlasmaPro 100 Nano通過(guò)在線催化劑活...
    型號(hào)： PlasmaPro... 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/8/12 11:13:24 對(duì)比

  • 原子層沉積（ALD）

    FlexAL系統(tǒng)可提供遠(yuǎn)程等離子體原子層沉積（ALD），這為納米結(jié)構(gòu)和器件的工程設(shè)計(jì)提供了一系列新的靈活性和可行性。ALD產(chǎn)品家族涵蓋的系列設(shè)備可以滿足學(xué)術(shù)界、...
    型號(hào)： FlexAL 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/8/12 11:04:26 對(duì)比

  • 原子層沉積研究設(shè)備

    TFS 500 是薄膜鍍膜應(yīng)用的理想選擇。作為第一個(gè) Beneq 反應(yīng)器模型，已被證明是用于深入研究原子層沉積研究和穩(wěn)健批處理的多功能工具。TFS 500 是多...
    型號(hào)： TFS 500 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/8/12 11:03:34 對(duì)比

  • 超快速、高精度空間原子層沉積鍍膜

    超快速、高精度空間原子層沉積鍍膜Beneq C2R 是我們集群兼容設(shè)備系列的空間 ALD 成員。Beneq C2R 將等離子體增強(qiáng)原子層沉積 （PEALD） 工...
    型號(hào)： 貝內(nèi)克 C2R 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/8/12 11:03:18 對(duì)比

  • 原子層沉積

    市場(chǎng)和應(yīng)用用于電池、太陽(yáng)能和柔性電子產(chǎn)品的功能性原子層沉積涂層。 Genesis ALD 是涂布任何卷筒格式基材以及多種功能應(yīng)用的理想選擇。各種類型鋰離子和固態(tài)...
    型號(hào)： 捷尼賽思 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/8/12 11:03:02 對(duì)比

  • PEALD 系統(tǒng)

    SENTECH True Remote CCP 源可在低溫下對(duì)敏感基材和層進(jìn)行均勻和保形涂層。在樣品表面提供高通量的反應(yīng)性氣體種類，而沒有紫外線輻射或離子轟擊。...
    型號(hào)： SI PEALD 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/8/12 10:25:24 對(duì)比

  • PEARD系統(tǒng)

    SENTECH SILAYO是一種用于光學(xué)鍍膜的等離子體增強(qiáng)原子層沉積（PEALD）系統(tǒng)，擴(kuò)展了SENTECH PECVD和ALD產(chǎn)品組合。SENTECH SI...
    型號(hào)： SENTECH S... 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/8/12 10:25:06 對(duì)比

  • ICPCVD

    PlasmaPro 80是一種結(jié)構(gòu)緊湊且使用方便的小型直開式系統(tǒng)，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置，便于使用，且能夠確保工藝性能。直開式設(shè)計(jì)可實(shí)現(xiàn)...
    型號(hào)： PlasmaPro... 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/8/12 10:13:43 對(duì)比

  • ICPECVD 系統(tǒng)

    電感耦合等離子體 （ICP） 沉積系統(tǒng)，SENTECH SI 500 D 用于介電膜的高密度、低離子能量和低壓等離子體沉積，以及用于鈍化層的低損傷、低溫沉積。S...
    型號(hào)： SI 500 D 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/8/12 10:09:28 對(duì)比
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