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l方案是適用于8吋晶圓的多腔等離子體沉積/刻蝕工藝系統(tǒng)l系統(tǒng)可用于研發(fā)和小批量生產(chǎn)l系統(tǒng)兼容8吋、6吋、4吋、3吋晶圓和不規(guī)則碎片

l方案是適用于8吋晶圓的多腔等離子體刻蝕工藝系統(tǒng)l系統(tǒng)可用于研發(fā)和小批量生產(chǎn)l系統(tǒng)兼容8吋、6吋、4吋、3吋晶圓和不規(guī)則碎片；不同尺寸樣片之間的切換、無(wú)需反應(yīng)腔...

一、簡(jiǎn)介：TFS200是一款適用于科學(xué)研究和企業(yè)研發(fā)的最靈活的ALD平臺(tái)，是為多用戶研究環(huán)境中將可能發(fā)生的交叉污染降至而特別設(shè)計(jì)的

一、產(chǎn)品介紹CIF烤膠機(jī)采用智能程序化控溫技術(shù)，控溫精準(zhǔn)均勻，加熱快速高效，維修簡(jiǎn)單方便，控溫范圍在室溫－360℃之間，控溫精度達(dá)到0.1℃

v應(yīng)用方向：提供深硅蝕刻（DSiE）領(lǐng)域的MEMS

v離子束刻蝕的靈活性、均勻性俱佳且應(yīng)用范圍廣

v可為多種材料提供各向異性干法刻蝕工藝v兼容200mm以下所有尺寸的晶圓

一、產(chǎn)品介紹：CIF推出RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)，采用RIE反應(yīng)離子誘導(dǎo)激發(fā)方式，實(shí)現(xiàn)對(duì)材料表面各向異性的微結(jié)構(gòu)刻蝕

v晶圓甩干機(jī)系高潔凈度的沖洗旋干設(shè)備

v供藥系統(tǒng)用于廠內(nèi)供藥，通過(guò)該系統(tǒng)可以按照設(shè)定的配比，將特定的藥液通過(guò)相應(yīng)的管路供應(yīng)到制程中

v控溫范圍：室溫-300℃v溫度分辨率：0.1℃v控溫精度：±0.2℃v溫度均勻性：＜±1％v可存貯100組烤膠配方

v全封閉式桌面顯影機(jī)

v滿足石墨烯和碳納米管研究的高溫和快速冷卻要求v直徑200毫米的石英室v內(nèi)部石英管的設(shè)計(jì)便于拆卸和清洗v基片尺寸可達(dá)直徑150毫米v三區(qū)電阻爐

v應(yīng)用方向：高質(zhì)量PECVD沉積氮化硅和二氧化硅，用于光子學(xué)、電介質(zhì)層、鈍化以及諸多其它用途

vMOCVD設(shè)備是通過(guò)將反應(yīng)物質(zhì)以有機(jī)金屬化合物氣體分子的形式

v主要功能：快速熱退火，快速熱氧化，快速熱氮化，擴(kuò)散，化合物半導(dǎo)體退火，離子注入后退火，電極合金化等v樣片尺寸：8inch，向下兼容，支持不規(guī)整樣品退火v退火溫...

v光源：375nm、385nm、405nm激光器v線寬：0

一、產(chǎn)品介紹CIF勻膠機(jī)轉(zhuǎn)速穩(wěn)定、啟動(dòng)迅速，旋涂均勻，操作簡(jiǎn)單，結(jié)構(gòu)緊湊實(shí)用，為實(shí)驗(yàn)室提供了理想的解決方案