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centrotherm Activator 150 高溫爐生產(chǎn)線專為硅-碳化合物（SiC）或鎵-氮化合物（GaN） 設(shè)備的后植入燒結(jié)而設(shè)計開發(fā)。Activato...

TRYMAX 等離子除膠機目前擁有半自動、全自動系列設(shè)備供用戶選擇，目前已有上百臺設(shè)備安裝在世界各地，被廣泛地應(yīng)用于MEMS微機電系統(tǒng)、微流體器件、SOI基片制...

采用創(chuàng)造性的達芬奇設(shè)計，配備了集成化的DIFFRAC.SUITETM軟件，附件自動識別、即插即用以及*集成化的二維XRD2功能。這些特征使得用戶可以非常方便的在...

D2 PHASER是德國布魯克AXS公司推出的桌面型多晶X射線衍射儀，通過Bragg-Brentano幾何，可以獲得高質(zhì)量的衍射數(shù)據(jù)，用于定性、定量分析、晶粒大...

MFR-2200系列焊臺的特點是具有雙路輸出功能，使用戶能夠選擇操作一個手柄或同時操作兩個手柄。下面的 MFR-2200 系統(tǒng)還可選擇操作三個手柄；不過，升級套...

適合兩個用戶或有雙應(yīng)用的單一用戶。 MX-5200 可以通過兩個手柄進行操作， 根據(jù)需求動態(tài)分流 80 瓦輸出功率，增強應(yīng)用靈活性和速度?？焖倩謴?fù)時間。提高生產(chǎn)...

Metcal 焊臺通過SmartHeat® 技術(shù)已經(jīng)手工焊接行業(yè)達35年。智能加熱的意思是熱能瞬間的按需傳遞到焊點。烙鐵頭內(nèi)嵌的可自我調(diào)節(jié)加熱芯可按照...

Quadra 系列X射線檢測系統(tǒng)的專li型QuadraNT 密封式X射線管技術(shù)，超越光學(xué)成像，可實現(xiàn)電子產(chǎn)品及元器件內(nèi)部遮蔽區(qū)域的無損檢測，zui高可放大680...

?Nordson DAGE NT500 免維護、密封傳送型 X 射線管?經(jīng)驗證的 < 0.5 μm 特征識別 160 kV 管（...

?Nordson DAGE NT500 免維護、密封傳送型 X 射線管?經(jīng)驗證的0.5 μm 特征識別160 kV 管（10 W 靶功率）?始終保留次微米能力?...

Quadra™3;適用于生產(chǎn)應(yīng)用的高質(zhì)量X射線檢測Quadra™3是您進行生產(chǎn)線質(zhì)量控制的高質(zhì)量X射線檢測的合作伙伴。檢測各種制造缺陷，...

Quadra 7 擁有jian端yi流的 X-射線檢測性能，功能非常強大，可以為您無損檢測到 0.1µm 的缺陷。Quadra 7 是yi款 X-射線...

Quadra™5 是一款 X-射線檢測系統(tǒng)，適用于亞微米材料的應(yīng)用如 PCB 和半導(dǎo)體封裝檢測、假冒成分篩選和成品質(zhì)量控制。

Jordan Valley公司新設(shè)計的Delta-X是多功能的X射線衍射設(shè)備，可靈活應(yīng)用于材料科學(xué)研究、工藝開發(fā)、與生產(chǎn)質(zhì)量控制。Delta-X衍射儀的光源臺和...

QC3 高分辨率X射線衍射儀是Jordan Valley公司推出的半導(dǎo)體生產(chǎn)質(zhì)量控制設(shè)備的新機型，專注于化合物半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中的生產(chǎn)監(jiān)控需求。Jordan Vall...

離子注入機由離子源、質(zhì)量分析器、加速器、四級透鏡、掃描系統(tǒng)和靶室組成，可以根據(jù)實際需要省去次要部位。離子源是離子注入機的主要部位，作用是把需要注入的元素氣態(tài)粒子...

SEC公司研發(fā)生產(chǎn)的桌上掃描電鏡（Mini-SEM）實現(xiàn)了大電鏡的小型化處理，結(jié)構(gòu)緊湊操作便捷，Mini-SEM以其人性化實用性設(shè)計及實惠的價格，成為了廣泛應(yīng)用...

鎢燈絲掃描電鏡：VEGA系列的設(shè)計適合各種SEM應(yīng)用及當(dāng)今研究和工業(yè)的需求。經(jīng)過10多年的不斷發(fā)展，TESCAN已經(jīng)成功開發(fā)、研制和制造了VEGA的第三代產(chǎn)品。...

基于高分辨率肖特基FEG-SEM鏡筒和高性能聚焦離子束鏡筒，LYRA3 FIB-SEM是一款SEM與FIB良好結(jié)合的一體化系統(tǒng)，能夠滿足高要求客戶的需要。新一代...

第yi個*集成式Xe等離子源聚焦離子束掃描電子顯微鏡----FERA3，提供了超高離子束束流（zui高束流為2µA），其濺射速度比Ga離子源高50多倍...