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美國OKI/METCAL電烙鐵MX-500/MX-5200/MX-5000手柄線MX-RM3E

METCAL電烙鐵DFP-CN4/DCP-CN4/DFP-CN5/DCP-CN5/DFP-CN6詳細(xì)介紹

高性能電子束曝光機(jī)是一款高性能的納米光刻系統(tǒng)，擁有完整200mm尺寸的光刻能力，這款電子束光刻系統(tǒng)代表了不斷進(jìn)化的高度成功和廣為市場(chǎng)接受的EBPG系列產(chǎn)品。

EBPG5150使用了155mm大小的樣品臺(tái)，采用跟電子束曝光機(jī)EBPG5200一樣的通用光刻平臺(tái)設(shè)計(jì)，

PIONEER Two將專業(yè)電子束曝光設(shè)備和電子成像系統(tǒng)所有的先進(jìn)性能，融合成一套獨(dú)立的成套系統(tǒng)。多功能性、穩(wěn)定性、用戶友好性操作，使PIONEER Two系統(tǒng)...

探索超越電子束曝光功能的納米工程系統(tǒng)超高分辨電子束曝光、成像及納米工程系統(tǒng)納米加工領(lǐng)域的瑞士

納米光刻技術(shù)在微納電子器件制作中起著關(guān)鍵作用,而電子束光刻在納米光刻技術(shù)制作中是的方法之一。先進(jìn)納米科技提供;的電子束納米光刻（EBL）系統(tǒng)，或稱電子束直寫（E...

納米光刻技術(shù)在微納電子器件制作中起著關(guān)鍵作用,而電子束光刻在納米光刻技術(shù)制作中是的方法之一。日本CRESTEC公司為21世紀(jì)先進(jìn)納米科技提供的電子束納米光刻（E...

電子束光刻系統(tǒng)特點(diǎn)1.采用高亮度和高穩(wěn)定性的TFE電子槍2.出色的電子束偏轉(zhuǎn)控制技術(shù)3.采用場(chǎng)尺寸調(diào)制技術(shù)，電子束定位分辨率（address size）可達(dá)0....

ContourGT-K 3D光學(xué)顯微鏡是表面輪廓儀功能和價(jià)值的標(biāo)準(zhǔn)。該系統(tǒng)具有各種2D / 3D測(cè)量，高分辨率成像和用戶友好的界面，該系統(tǒng)以緊湊的封裝和緊湊的占...

ContourX-500光學(xué)輪廓儀是用于快速，非接觸式3D表面度量的世界上全面的自動(dòng)化臺(tái)式系統(tǒng)。該系統(tǒng)集成了布魯克專有的傾斜/傾斜光學(xué)頭，可以*編程，以在一定角...

ContourX-200光學(xué)輪廓儀將其特性，可自定義的選項(xiàng)以及易用性完美融合，可提供yi 流的快速，準(zhǔn)確和可重復(fù)的非接觸式3D表面度量。

ContourX-100光學(xué)輪廓儀以佳的價(jià)格為準(zhǔn)確和可重復(fù)的非接觸式表面計(jì)量樹立了新的*。小尺寸系統(tǒng)采用流線型封裝，可提供的2D / 3D高分辨率測(cè)量功能，

布魯克作為三維表面測(cè)量與觀察業(yè)界的ling dao者，提供從微觀如MEMS（微機(jī)電系統(tǒng)）到宏觀如發(fā)動(dòng)機(jī)腔體等不同大小樣品的快說非接觸式分析。

納米光刻技術(shù)在微納電子器件制作中起著關(guān)鍵作用,而電子束光刻在納米光刻技術(shù)制作的方法之一。

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EVG®850LT SOI和直接晶圓鍵合的自動(dòng)化生產(chǎn)鍵合系統(tǒng)，自動(dòng)化生產(chǎn)鍵合系統(tǒng)，適用于多種融合/分子晶圓鍵合應(yīng)用

850 SOI的自動(dòng)化生產(chǎn)鍵合系統(tǒng)適用于多種融合/分子晶圓鍵合應(yīng)用。SOI晶片是微電子行業(yè)有望生產(chǎn)出更快，性能更高的微電子設(shè)備的有希望的新基礎(chǔ)材料。晶圓鍵合技術(shù)...

810LT LowTemp™等離子激活系統(tǒng)；適用于SOI，MEMS，化合物半導(dǎo)體和先進(jìn)基板鍵合的低溫等離子體活化系統(tǒng)