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玉崎科學(xué)儀器(深圳)有限公司
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當(dāng)前位置:玉崎科學(xué)儀器(深圳)有限公司>>ULVAC愛發(fā)科>>蝕刻設(shè)備>> RISETM-300日本ULVAC愛發(fā)科半導(dǎo)體間自然氧化蝕刻設(shè)備

日本ULVAC愛發(fā)科半導(dǎo)體間自然氧化蝕刻設(shè)備

參  考  價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號(hào)RISETM-300

品       牌其他品牌

廠商性質(zhì)經(jīng)銷商

所  在  地深圳市

更新時(shí)間:2024-11-25 14:41:19瀏覽次數(shù):40次

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價(jià)格區(qū)間 面議 應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,綜合
日本ULVAC愛發(fā)科RISETM-300半導(dǎo)體間自然氧化蝕刻設(shè)備
日本ULVAC愛發(fā)科半導(dǎo)體間自然氧化蝕刻設(shè)備

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日本ULVAC愛發(fā)科半導(dǎo)體間自然氧化蝕刻設(shè)備


間歇式自然氧化膜去除設(shè)備 RISETM-300

間歇式自然氧化膜去除設(shè)備RISE TM -300是一種間歇式預(yù)清洗設(shè)備,可以去除LSI深接觸底部等難處理的自然氧化膜。兼容300mm目標(biāo)晶圓。


特征

  • 實(shí)現(xiàn)高吞吐量和低 CoO

  • 良好的蝕刻均勻性(< ±5%/批次)和再現(xiàn)性

  • 干法

  • 無損壞(遠(yuǎn)程等離子體和低溫工藝)

  • 與傳統(tǒng)濕法工藝相比,自對(duì)準(zhǔn)接觸電阻降低至 1/2

  • 設(shè)備布局靈活

  • 強(qiáng)調(diào)可維護(hù)性

  • 50 300mm晶圓批量加工

目的

  • 用于形成自對(duì)準(zhǔn)觸點(diǎn)的預(yù)處理

  • 電容器形成過程中的預(yù)處理

  • 外延生長(zhǎng)過程中的預(yù)處理

規(guī)格

模型RISETM-300
等離子源微波電源
設(shè)備配置EFEM + LL + PM
板尺寸Φ300mm
板臺(tái)陶瓷舟(50只/批)
排氣系統(tǒng)機(jī)械增壓泵+DRP
控制系統(tǒng)FAPC+TFT觸摸屏
氣體導(dǎo)入系統(tǒng)3個(gè)系統(tǒng)
應(yīng)用SAC、電容器和外延生長(zhǎng)過程中的預(yù)處理

















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