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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司

當(dāng)前位置:深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司>>半導(dǎo)體前道工藝設(shè)備>>1 光刻設(shè)備>> VPG 200 / VPG 400有掩膜光刻機(jī)

有掩膜光刻機(jī)

參  考  價(jià):面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號(hào)VPG 200 / VPG 400

品牌STELLA/海德堡儀器

廠商性質(zhì)經(jīng)銷商

所在地深圳市

更新時(shí)間:2024-09-04 16:25:58瀏覽次數(shù):255次

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VPG 200 / VPG 400 體積圖形發(fā)生器是光刻系統(tǒng),專為 i-line 光刻膠的多用途掩模制造而設(shè)計(jì)。它們支持所有標(biāo)準(zhǔn)的中小型面罩尺寸,最大尺寸為 410 x 410 mm++2.應(yīng)用包括 MEMS 掩模制造、先進(jìn)封裝、3D 集成、LED 和 OLED 掩模以及微流體。

VPG 具有經(jīng)過現(xiàn)場(chǎng)驗(yàn)證的超高速曝光引擎和高功率 DPSS 激光器。其技術(shù)將高分辨率、準(zhǔn)確性和出色的圖像質(zhì)量與高吞吐

1. 產(chǎn)品概述:

VPG 200 / VPG 400 體積圖形發(fā)生器是光刻系統(tǒng),為 i-line 光刻膠的多用途掩模制造而設(shè)計(jì)。它們支持所有標(biāo)準(zhǔn)的中小型面罩尺寸,大尺寸為 410 x 410 mm++2.

寫入模式

I-QX系列

一代

二代

三代

寫作表現(xiàn)





小結(jié)構(gòu)尺寸 [μm]

0.75

0.75

1

2

小行數(shù)和間距 [μm]

1.5

1.5

2

4

地址網(wǎng)格 [nm]

12.5

12.5

25

50

邊緣粗糙度 [3σnm]

30

40

50

70

CD均勻度 [3σ, nm]

55

65

75

110

拼接穩(wěn)定性 [3σ, nm]

30

60

70

100

2 層對(duì)準(zhǔn) [nm]

225

225

350

500

寫入速度 [mm2/min]

485

970

3150

6400

100 x 100 mm 的曝光時(shí)間2面積 [min]

28

14

5.6

3.5

系統(tǒng)特點(diǎn)


光源

355 nm 的高功率 DPSS 激光器

大基板尺寸

9 英寸 x 9 英寸/17 英寸 x 17 英寸

基板厚度

0 12 mm (可根據(jù)要求提供其他厚度)

大曝光面積

205 x 205 毫米2/ 410 x 410 毫米2

自動(dòng)對(duì)焦

實(shí)時(shí)自動(dòng)對(duì)焦系統(tǒng)(光學(xué)和氣動(dòng))

自動(dòng)對(duì)焦補(bǔ)償范圍

高達(dá) 80 μm

流量箱

(閉環(huán))溫控環(huán)境試驗(yàn)箱

對(duì)準(zhǔn)

用于測(cè)量和對(duì)準(zhǔn)的相機(jī)系統(tǒng)和軟件包

其他功能和選項(xiàng)

2D載物臺(tái)貼圖和數(shù)據(jù)、Mura校正、邊緣檢測(cè)器、多種數(shù)據(jù)輸入格式(DXF、CIF、GDSIIGerber等)、可選的自動(dòng)掩模處理、可選的Zerodur®載物臺(tái)和特殊卡盤



系統(tǒng)尺寸



系統(tǒng) / 電子機(jī)架

寬度 [mm]

2605 / 800

深度 [mm]

1652 / 650

高度 [mm]

2102 / 1800

重量 [kg]

3550 / 180



安裝要求


電氣

400 VAC ± 5 %, 50/60 Hz, 16 A, 3

壓縮空氣

6 - 10










有掩膜光刻機(jī)

1.手動(dòng)、半自動(dòng)、全自動(dòng)有掩膜光刻機(jī)$r$n2.高分辨率掩模對(duì)準(zhǔn)光刻,

無掩膜/激光直寫光刻機(jī)

無掩膜/激光直寫光刻機(jī) 參數(shù):1. 光源:375 nm、385 nm、

電子束光刻系統(tǒng)

電子束光刻系統(tǒng) 技術(shù)參數(shù):$r$n1.最小線寬≤8nm 光柵周期

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