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當前位置：深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司>>半導(dǎo)體前道工藝設(shè)備>>2 PVD>> eVictor Al PVD鋁物理氣相沉積系統(tǒng)
| 參 考 價: | 面議 |
產(chǎn)品型號eVictor Al PVD
品牌北方華創(chuàng)
廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
所在地北京市
更新時間：2024-09-05 17:07:46瀏覽次數(shù)：343次
聯(lián)系我時，請告知來自 化工儀器網(wǎng)1. 產(chǎn)品概述
eVictor Al PVD 鋁物理氣相沉積系統(tǒng)，先進的磁控濺射系統(tǒng)，有效提高薄膜均勻性及靶材利用率。
2. 設(shè)備用途/原理
eVictor Al PVD 鋁物理氣相沉積系統(tǒng)，先進的磁控濺射系統(tǒng)，有效提高薄膜均勻性及靶材利用率，加熱基座和高溫靜電卡盤設(shè)計，具備良好的溫度均勻性，全新雙腔傳輸平臺，可配置性強，多可支持 10 個工藝模塊，優(yōu)質(zhì)的 Whisker 解決方案，降低產(chǎn)品缺陷，大產(chǎn)能，低運營成本。
3. 設(shè)備特點
晶圓尺寸 8、12 英寸，適用材料 高溫鋁、氮化鉭、氮化鈦。適用工藝 熱鋁、鋁焊盤、鋁線，適用域 新興應(yīng)用。
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