原位高壓反應(yīng)釜一種原位高溫高壓反應(yīng)裝置，包括：真空腔體、反應(yīng)池、加熱裝置、制冷裝置、加壓氣路和饋入裝置；其中，所述真空腔體設(shè)置冷卻開口、饋入開口和真空腔氣孔；所述制冷裝置伸入所述真空腔體中，密封連接所述冷卻開口；所述反應(yīng)池包括樣品臺和反應(yīng)池腔體，所述樣品臺固定所述制冷裝置；所述饋入裝置密封連接所述真空腔體，所述反應(yīng)池腔體固定所述饋入裝置，當(dāng)所述饋入裝置*饋入所述真空腔體時(shí)，所述反應(yīng)池腔體與所述樣品臺密封連接；樣品固定在所述樣品臺上，所述加熱裝置給所述樣品加熱；所述真空腔氣孔連接外部真空系統(tǒng)，所述加壓氣路連接所述反應(yīng)池和外部高壓氣源。

高溫高壓反應(yīng)池可在受控環(huán)境下研究多相催化、氣固相互作用，光化學(xué)反應(yīng)和氧化機(jī)理研究。通常高溫高壓反應(yīng)池有2路氣口，一路進(jìn)氣，一路出氣。通過進(jìn)氣口給反應(yīng)池充入高達(dá)10個(gè)大氣壓的氧氣、氮?dú)獾葰怏w以達(dá)到高壓的要求。通過激光加熱樣品，實(shí)現(xiàn)樣品與高壓氣體反應(yīng)后迅速通入液氮給腔體內(nèi)樣品降溫、淬火。為了防止低溫下反應(yīng)池遇水汽結(jié)冰，須將反應(yīng)池于超高真空腔體中。一方面反應(yīng)池內(nèi)的高壓與真空腔體的真空環(huán)境形成巨大的壓力差，另一方面從液氮溫區(qū)到1000度高溫整個(gè)溫區(qū)內(nèi)反應(yīng)池所選用材料會有很大的熱脹冷縮效應(yīng)，這些都對真空腔體內(nèi)的反應(yīng)池窗口密封以及多次重復(fù)密封都提出了嚴(yán)格的要求。現(xiàn)有技術(shù)中，高溫高壓反應(yīng)腔仍沒有解決問題的方案，也沒有高穩(wěn)定性，結(jié)構(gòu)簡單可重復(fù)使用的產(chǎn)品。