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上海巖征實驗儀器有限公司

原位高溫高壓反應裝置

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產(chǎn)品型號

品牌巖征儀器

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所在地上海市

更新時間:2024-05-23 13:44:32瀏覽次數(shù):3636次

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產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 應用領域 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,石油,能源
巖征儀器原位高溫高壓反應裝置廣泛適用于光熱催化液體燃料評價系統(tǒng)主要應用于連續(xù)相光催化,氣固相光催化,氣液反應光催化,在污染物降解,催化合成,硫化反應,熱催化等領域獲得很好的應用;尤其在光催化二氧化碳CO2還原、光電催化活性評價、VOC的降解分析(非甲烷總烴的降解分析)、苯系物的降解分析、國標乙醛的降解分析、甲醛的光催化、汽車尾氣氮氧化物的降解分析、光催化的固氮反應等

原位高溫高壓反應裝置

原位高溫高壓反應裝置采用在高壓反應釜的內(nèi)部設置相對獨立的紅外傳感器,將紅外光傳感元件衰減全反射晶體從高壓樣品池底部的承壓殼體中剝離。紅外傳感器采用耐壓性能和中紅外光透過性能好、折射率高的晶體材料作為衰減全反射棱鏡,減小衰減全反射棱鏡的體積以及紅外傳感器的承壓截面面積,提高了系統(tǒng)的耐壓性能;采用反射倉、光導纖維以及紅外傳感器設置分析光路,將紅外光譜儀的紅外發(fā)光器發(fā)出的中紅外光經(jīng)反射倉和光導纖維傳輸?shù)郊t外傳感器探測平面上實現(xiàn)與高壓反應釜內(nèi)部待測樣品的有效耦合,使通過紅外傳感器的分析光路相對獨立而不受高壓反應釜位置偏移等因素的影響,克服了現(xiàn)有衰減全反射式高壓原位紅外監(jiān)測裝置結(jié)構(gòu)復雜、光路校準繁瑣、檢測不準確的弊端;

高溫高壓反應池可在受控環(huán)境下研究多相催化、氣固相互作用,光化學反應和氧化機理研究。通常高溫高壓反應池有2路氣口,一路進氣,一路出氣。通過進氣口給反應池充入高達10個大氣壓的氧氣、氮氣等氣體以達到高壓的要求。通過激光加熱樣品,實現(xiàn)樣品與高壓氣體反應后迅速通入液氮給腔體內(nèi)樣品降溫、淬火。為了防止低溫下反應池遇水汽結(jié)冰,須將反應池于超高真空腔體中。一方面反應池內(nèi)的高壓與真空腔體的真空環(huán)境形成巨大的壓力差,另一方面從液氮溫區(qū)到1000度高溫整個溫區(qū)內(nèi)反應池所選用材料會有很大的熱脹冷縮效應,這些都對真空腔體內(nèi)的反應池窗口密封以及多次重復密封都提出了嚴格的要求?,F(xiàn)有技術中,高溫高壓反應腔仍沒有解決問題的方案,也沒有高穩(wěn)定性,結(jié)構(gòu)簡單可重復使用的產(chǎn)品。

 

原位高溫高壓反應裝置

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紅外原位反應裝置

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高壓原位紅外光譜測試裝置

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