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德國韋氏納米系統(tǒng)(香港)有限公司
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NTE-3000熱蒸發(fā)系統(tǒng)

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產(chǎn)品型號

品       牌

廠商性質生產(chǎn)商

所  在  地國外

更新時間:2017-03-03 10:47:51瀏覽次數(shù):1101次

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NTE-3000熱蒸發(fā)系統(tǒng):NTE-3000是PC控制的臺式熱蒸發(fā)系統(tǒng),在有機物和金屬沉積方面具有廣泛的應用。設備具有占地面積小、干凈、均勻、可控及可重復的工藝特點。具有低價格, 高性能以及高能力的特點,可滿足于客戶研發(fā)及小規(guī)模生產(chǎn)的應用要求,該系統(tǒng)可以在設定的RMS電流下,或者在閉環(huán)的配置下操作,并且在這種情況下沉積速度的變化被用于調節(jié)RMS電流以維持恒定的沉積速度。

熱蒸發(fā)鍍膜

NTE-3000熱蒸發(fā)系統(tǒng)概述:NANO-MASTER NTE-3000是一款PC計算機控制的臺式熱蒸發(fā)系統(tǒng),在有機物和金屬沉積方面具有廣泛的應用。設備的設計經(jīng)過非常慎重的考慮:在小的占地面積情況下實現(xiàn)干凈、均勻、可控及可重復的工藝過程。它們具有低價格, 高性能以及高能力的特點,可滿足于客戶研發(fā)及小規(guī)模生產(chǎn)的應用要求。 NTE-3000熱蒸發(fā)系統(tǒng)可以在設定的RMS電流下,或者在閉環(huán)的配置下操作,并且在這種情況下沉積速度的變化被用于調節(jié)RMS電流以維持恒定的沉積速度。

NTE-3000蒸發(fā)系統(tǒng)是一個臺式系統(tǒng),跟我們的濺射系統(tǒng)共享一個共同的平臺;比如:櫥柜,腔體,真空系統(tǒng),計算機控制架構等方面都是一樣的。*的區(qū)別是一個使用磁控管,另一個使用加熱坩堝.因此,在我們?yōu)R射系統(tǒng)上的許多技術同樣適用到我們的熱蒸發(fā)系統(tǒng)中,比如:樣品臺的加熱,旋轉,偏斜;涂覆前的等離子清洗,膜厚監(jiān)測,序列或同時操作多源;鐘罩、鋁或不銹鋼腔體;預真空鎖以及自動裝片/取片系統(tǒng)等。

NTE-3000NSC-3000很像除了樣片臺是在頂部并且樣片是面朝下固定。因為有許多的共同點,我們可以提供NTS系列的系統(tǒng)(NTS-3000, NTS-4000),具有濺射和蒸發(fā)兩種能力。通過計算機控制系統(tǒng),我們可以在同一套系統(tǒng)上提供濺射和蒸發(fā)能力,這樣可以充分利用濺射和蒸發(fā)技術,而無須中斷真空。

Nano-Master的蒸發(fā)系統(tǒng)的另一大*優(yōu)勢是持續(xù)性地控制加熱器電流,而不是震蕩式控制加熱器。系統(tǒng)裝配固態(tài)電流控制電路,這點跟許多系統(tǒng)采用的自藕變壓器不同。在該系統(tǒng)中,電流或者RMS值的持續(xù)時間被控制。用戶可以選擇一個設定值,它實際上是設定交流電半周期的部分,會出現(xiàn)跟鎢加熱器電線的交叉。這樣,系統(tǒng)可以實現(xiàn)精確快速的電流控制,這使得閉環(huán)溫度控制就可以實現(xiàn)。此外,電流控制以及溫度控制,可以滿足蒸發(fā)的苛刻要求,無論是對有機材料還是對金屬。我們測量坩堝TBRMS電壓,RMS電流,和溫度,并通過熱電偶TC跟坩堝底部接觸的方式測量溫度??折釄宓募訜釋嶒灲Y果如下圖所示,這些加熱實驗結果是在208V線電壓下進行的。電流和電壓(沒有顯示)通過RMS儀表測量。

通過以上的溫度與電流的關系,我們可以設定并控制電流以達到坩堝內想要的溫度,溫度可以通過熱電偶來測量。材料防止在坩堝中熱損失和加熱時間的常量將會發(fā)生變化,然而坩堝內的溫度和熱電偶的測量值之間的關系將不會變化。因此,我們的技術可以實現(xiàn)坩堝內的溫度不依賴于大部分放入的材料,甚至不受線電壓值的影響。

產(chǎn)品特點:

  • zui大可支持7"的方片或200mm的晶圓片
  • 沉積速度可控
  • 旋轉的樣品臺
  • 雙坩堝
  • 2KVA SRC控制電源
  • 晶振式膜厚監(jiān)控儀
  • 通過LabView軟件實現(xiàn)PC計算機控制

相似產(chǎn)品型號:

  • NTE-4000  基于PC計算機全自動控制的獨立系統(tǒng)
  • NTE-3500  基于PC計算機全自動控制的緊湊型獨立系統(tǒng)
  • NTE-3000  基于PC計算機全自動控制的雙蒸發(fā)源臺式系統(tǒng)
  • NTE-1000  計算機控制的單蒸發(fā)源臺式系統(tǒng)

 

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