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Deposition沉積系統(tǒng): AT-400原子層沉積 PLD脈沖激光沉積 PA-MOCVD等離子輔助 ALD原子層沉積系統(tǒng) PECVD等離子化學(xué)氣相沉積系 Sputter磁控濺射系統(tǒng) E-Beam電子束蒸發(fā) 熱蒸發(fā)鍍膜熱蒸發(fā)鍍膜離子束刻蝕濺射鍍膜一體機(jī) 光學(xué)元件原子級拋光鍍膜設(shè)備

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NSC-1000磁控濺射系統(tǒng)
NSC-1000磁控濺射系統(tǒng)：帶有水冷或者加熱（Z高可加熱到700度）功能，Z大到6“旋轉(zhuǎn)平臺，Z大可支持到2個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達(dá)...

型號：所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2017/3/3 10:56:12 對比

NSC-1000磁控濺射系統(tǒng)
NSC-3000（M）磁控濺射系統(tǒng)
NSC-3000（M）磁控濺射系統(tǒng)：帶有水冷或者加熱（Z高可加熱到700度）功能，Z大到6“旋轉(zhuǎn)平臺，Z大可支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真...

型號：所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2017/3/3 10:55:44 對比

NSC-3000（M）磁控濺射系統(tǒng)
NSC-3000（A）全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)
NSC-3000（A）全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)：臺式自動(dòng)系統(tǒng)，帶有水冷或者加熱（Z高可加熱到700度）功能，Z大到6“旋轉(zhuǎn)平臺，Z大可支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配...

型號：所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2017/3/3 10:55:15 對比

NSC-3000（A）全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)
NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機(jī)
NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機(jī)：*進(jìn)的全自動(dòng)濺射系統(tǒng)帶有水冷或者加熱（Z高可加熱到700度）功能的8“旋轉(zhuǎn)樣平臺,Z大可支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。...

型號：所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2017/3/3 10:54:46 對比

NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機(jī)
NSC-3500（M）磁控濺射系統(tǒng)
NSC-3500（M）磁控濺射系統(tǒng)：帶有水冷或者加熱（Z高可加熱到700度）功能，Z大到8“旋轉(zhuǎn)平臺，Z大可支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真...

型號：所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2017/3/3 10:53:59 對比

NSC-3500（M）磁控濺射系統(tǒng)
NSC-3500（A）全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)
NSC-3500（A）全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)：立式自動(dòng)系統(tǒng)，帶有水冷或者加熱（Z高可加熱到700度）功能，Z大到6“旋轉(zhuǎn)平臺，Z大可支持到4個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配...

型號：所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2017/3/3 10:53:26 對比

NSC-3500（A）全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)
NSC-4000（A）全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)
NSC-4000（A）全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)：立式自動(dòng)系統(tǒng)，帶有水冷或者加熱（Z高可加熱到700度）功能，Z大到6“旋轉(zhuǎn)平臺，Z大可支持到4個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配...

型號：所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2017/3/3 10:53:01 對比

NSC-4000（A）全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)
NSC-4000NSC-4000（M）磁控濺射系統(tǒng)
NSC-4000NSC-4000（M）磁控濺射系統(tǒng)：帶有水冷或者加熱（Z高可加熱到700度）功能，Z大到8“旋轉(zhuǎn)平臺，Z大可支持到4個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦...

型號：所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2017/3/3 10:52:33 對比

NSC-4000NSC-4000（M）磁控濺射系統(tǒng)

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