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ComBond®Automated High-Vacuum Wafer Bonding System
ComBond®自動化的高真空晶圓鍵合系統(tǒng)
高真空晶圓鍵合平臺促進(jìn)“任何物上的任何東西”的共價(jià)鍵
EVG ComBond高真空晶圓鍵合平臺標(biāo)志著EVG*的晶圓鍵合設(shè)備和技術(shù)產(chǎn)品組合中的一個(gè)新里程碑,可滿足市場對更復(fù)雜的集成工藝的需求。 EVG ComBond支持的應(yīng)用領(lǐng)域包括先進(jìn)的工程襯底,堆疊的太陽能電池和功率器件到端MEMS封裝,高性能邏輯和“超越CMOS”器件。
EVG ComBond系統(tǒng)的模塊化集群設(shè)計(jì)提供了高度靈活的平臺,可以針對研發(fā)和高通量,大批量制造環(huán)境中的各種苛刻的客戶需求量身定制。 EVG ComBond促進(jìn)了具有不同晶格常數(shù)和熱膨脹系數(shù)(CTE)的異質(zhì)材料的粘合,并通過其*的氧化物去除工藝促進(jìn)了導(dǎo)電鍵界面的形成。 EVG ComBond高真空技術(shù)還可以實(shí)現(xiàn)鋁等金屬的低溫粘合,這種金屬可以在周圍環(huán)境中快速重新氧化。對于所有材料組合,都可以實(shí)現(xiàn)無空隙和無顆粒的粘結(jié)界面以及出色的粘結(jié)強(qiáng)度。
特征
高真空,對齊,共價(jià)鍵合
在高真空環(huán)境(<5·10-8 mbar)中進(jìn)行處理
原位亞微米面對面對準(zhǔn)精度
高真空MEMS和光學(xué)器件封裝原位表面和原生氧化物去除
優(yōu)異的表面性能
導(dǎo)電結(jié)合
室溫過程
多種材料組合,包括金屬(鋁)
無應(yīng)力粘結(jié)界面
高粘結(jié)強(qiáng)度
用于HVM和R&D的模塊化系統(tǒng)
多達(dá)六個(gè)模塊的靈活配置
基板尺寸大為200毫米
*自動化
技術(shù)數(shù)據(jù)
真空度:處理:<7E-8 mbar;處理:<5E-8毫巴
集群配置
處理模塊:小 3,大 6
加載:手動,卡帶,EFEM
可選的過程模塊:
鍵合模塊
ComBond®激活模塊(CAM)
烘烤模塊
真空對準(zhǔn)模塊(VAM)
晶圓直徑:高達(dá)200毫米;
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