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520HE 納米壓印-EVG 520HE 熱壓印系統(tǒng)
  • 520HE 納米壓印-EVG 520HE   熱壓印系統(tǒng)

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更新時(shí)間:2024-10-21 21:00:07

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經(jīng)通用生產(chǎn)驗(yàn)證的熱壓花系統(tǒng),可滿足高要求

EVG®520 HE  Hot Embossing System

EVG®520HE   壓印系統(tǒng)

 

經(jīng)通用生產(chǎn)驗(yàn)證的熱壓花系統(tǒng),可滿足高要求

 

技術(shù)數(shù)據(jù)

EVG520 HE半自動熱壓花系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于對熱塑性基材進(jìn)行高精度壓印。 EVG的這種經(jīng)過生產(chǎn)驗(yàn)證的系統(tǒng)可以接受直徑大為200 mm的基板,并且與標(biāo)準(zhǔn)的半導(dǎo)體制造技術(shù)兼容。熱壓花系統(tǒng)配置有通用壓花腔室以及高真空和高接觸力功能,并管理適用于熱壓花的整個聚合物范圍。結(jié)合高縱橫比壓印和多種脫壓選項(xiàng),提供了許多用于高質(zhì)量圖案轉(zhuǎn)印和納米分辨率的工藝。

 

 

特征

用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓花和納米壓印應(yīng)用

自動化壓花工藝

EVG專有的獨(dú)立對準(zhǔn)工藝,用于光學(xué)對準(zhǔn)的壓印和壓印

氣動壓花選項(xiàng)

軟件控制的流程執(zhí)行

 

 

 

 

 

 

 

 

技術(shù)數(shù)據(jù)

加熱器尺寸150毫米200毫米

大基板尺寸150毫米200毫米

小基板尺寸單芯片100毫米

 

大接觸力10、20、60、100 kN

 

溫度:標(biāo)準(zhǔn):350°C;可選:550°C;

粘合卡盤系統(tǒng)/對準(zhǔn)系統(tǒng)150毫米加熱器:EVG®610,EVG®620,EVG®6200

200毫米加熱器:EVG®6200,MBA300,SmartView®NT

真空:標(biāo)準(zhǔn):0.1毫巴;      可選:0.00001 mbar


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