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EVG500系列鍵合機(jī)：EVG501

• 簡介

EVG公司成立于1980年，公司總部和制造廠位于奧地利，在美國、日本和中國臺灣設(shè)有分公司，并在其他各地設(shè)有銷售代理及售后服務(wù)部，產(chǎn)品和服務(wù)遍及世界各地。

EVG公司是一家致力于半導(dǎo)體制造設(shè)備的供應(yīng)商，其豐富的產(chǎn)品系列包括：涂膠和噴膠/顯影機(jī)/熱板/冷板、掩模版光刻/鍵合對準(zhǔn)系統(tǒng)、基片熱壓鍵合/低溫等離子鍵合系統(tǒng)、基片清洗機(jī)、基片檢測系統(tǒng)、SOI 基片鍵合系統(tǒng)、基片臨時鍵合/分離系統(tǒng)、納米壓印系統(tǒng)。

目前已有數(shù)千臺設(shè)備安裝在世界各地，被廣泛地應(yīng)用于MEMS微機(jī)電系統(tǒng)/微流體器件，SOI基片制造，3D封裝，納米壓印，化合物半導(dǎo)體器件和功率器件等   域。

EVG公司是世界上頂jian的基片鍵合設(shè)備制造商，其鍵合工藝被認(rèn)定為MEMS   域的標(biāo)準(zhǔn)工藝。EVG鍵合系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)陽極鍵合、熱壓鍵合、中間層粘著鍵合、 玻璃漿料鍵合、硅-硅直接鍵合、共晶鍵合及SOI鍵合等所有鍵合工藝。EVG鍵合設(shè)備型號齊全，從手動裝片系統(tǒng)到全自動片盒送片多工藝室系統(tǒng)，可以滿足不同客戶的應(yīng)用要求。無論手動/半自動裝片系統(tǒng)， 鍵合工藝全部自動完成；而且，*的基片夾具及鍵合室結(jié)構(gòu)設(shè)計，可實(shí)現(xiàn)高精度的圓片鍵合；此外上/下極板為獨(dú)立分別加熱控制，   大加熱溫度可達(dá)650度。

EVG501是一款主要用于研發(fā)的高度靈活的鍵合系統(tǒng)，既可以處理很小的碎片也可以處理200mm的晶圓?？梢灾С指鞣N形式的鍵合，如陽極鍵合、玻璃焊料鍵合、共晶、擴(kuò)散、融合、焊接和粘結(jié)鍵合；也可以支持其他熱處理過程如氧化物移除和高溫烘烤等。EVG501在夾具更換時非常方便，更換時間一般不超過5分鐘，大大減少了客戶的操作時間和培訓(xùn)費(fèi)用，因此EVG501是一款非常適合研發(fā)和小量生產(chǎn)的設(shè)備。

二、應(yīng)用范圍

主要應(yīng)用于MEMS制造、微流體芯片、化合物半導(dǎo)體的薄片處理、晶圓級先進(jìn)封裝以及3D互聯(lián)、TSV工藝等。

三、主要特點(diǎn)

1.    大化降低客戶總擁有成本（TCO）
2.    高鍵合溫度450度，壓力10KN
3. 的硅片低壓契型補(bǔ)償系統(tǒng)以提高良率
4. 溫度均勻性： <+/- 1% ；壓力均勻性：<+/- 5%
5. 工藝菜單與其他鍵合系統(tǒng)通用
6. 高真空度鍵合腔室 (可低至 10^-5 mbar，使用分子泵)
7. 開放式腔室設(shè)計便于快速轉(zhuǎn)換和維護(hù)
8. 基于Windows 的控制軟件和操作界面
9.    小化占地占地面積--- 200 mm鍵合系統(tǒng)占地 0.88 m²

四、技術(shù)參數(shù)

納米壓印設(shè)備之紫外納米壓印：EVG600系列

• 簡介

EVG公司成立于1980年，公司總部和制造廠位于奧地利，在美國、日本和中國臺灣設(shè)有分公司，并在其他各地設(shè)有銷售代理及售后服務(wù)部，產(chǎn)品和服務(wù)遍及世界各地。

EVG公司是一家致力于半導(dǎo)體制造設(shè)備的供應(yīng)商，其豐富的產(chǎn)品系列包括：涂膠和噴膠/顯影機(jī)/熱板/冷板、掩模版光刻/鍵合對準(zhǔn)系統(tǒng)、基片熱壓鍵合/低溫等離子鍵合系統(tǒng)、基片清洗機(jī)、基片檢測系統(tǒng)、SOI 基片鍵合系統(tǒng)、基片臨時鍵合/分離系統(tǒng)、納米壓印系統(tǒng)。

目前已有數(shù)千臺設(shè)備安裝在世界各地，被廣泛地應(yīng)用于MEMS微機(jī)電系統(tǒng)/微流體器件，SOI基片制造，3D封裝，納米壓印，化合物半導(dǎo)體器件和功率器件等    域。

EVG是世界上為數(shù)不多的可以商業(yè)化納米壓印設(shè)備的著ming公司，可為客戶提供完整的納米壓印方案，包括熱壓印、紫外壓印、微接觸印刷。EVG公司以其專li的極其優(yōu)異的對準(zhǔn)技術(shù)和世界    先的熱壓技術(shù)為納米壓印的成功實(shí)施打下了堅實(shí)的基礎(chǔ)。

EVG620紫外納米壓印用于從印章到襯底的紫外圖形轉(zhuǎn)移。EVG620自動納米壓印系統(tǒng)允許襯底和印章的尺寸從很小的芯片到150mm直徑的圓片范圍。用于納米技術(shù)應(yīng)用的配置包括印章機(jī)械釋放、程序控制高或低的接觸壓力。EVG*的吸盤設(shè)計支持軟印章和硬印章壓印，可以保證大面積納米壓印的均勻壓力，從而保證獲得很高的良率。

二、應(yīng)用范圍

納米壓印技術(shù)主要應(yīng)用于如下方面：

LEDS 制作，LED PSS納米壓印工藝，LED納米透鏡陣列；微流體學(xué)；芯片實(shí)驗(yàn)室；抗反射層； 納米壓印光柵； 蓮花效應(yīng)；光子帶隙；光學(xué)及通訊：光晶體，激光器件；生物技術(shù)解決方案：醫(yī)藥分析，血液分析，細(xì)胞生長。

三、主要特點(diǎn)

1. 適用于紫外納米壓印和微接觸印刷；
2. 紫外光曝光；
3. 配備的紫外納米壓印工具；
4. 適于軟或硬印章壓??；
5. 適用襯底：Si，玻璃，化合物半導(dǎo)體；