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EVG610單面/雙面光刻機(jī)

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• 簡(jiǎn)介

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  EVG公司成立于1980年，公司總部和制造廠位于奧地利，在美國(guó)、日本和中國(guó)臺(tái)灣設(shè)有分公司，并在其他各地設(shè)有銷售代理及售后服務(wù)部，產(chǎn)品和服務(wù)遍及世界各地。

  EVG公司是一家致力于半導(dǎo)體制造設(shè)備的供應(yīng)商，其豐富的產(chǎn)品系列包括：涂膠和噴膠/顯影機(jī)/熱板/冷板、掩模版光刻/鍵合對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)、基片熱壓鍵合/低溫等離子鍵合系統(tǒng)、基片清洗機(jī)、基片檢測(cè)系統(tǒng)、SOI 基片鍵合系統(tǒng)、基片臨時(shí)鍵合/分離系統(tǒng)、納米壓印系統(tǒng)。

  目前已有數(shù)千臺(tái)設(shè)備安裝在世界各地，被廣泛地應(yīng)用于MEMS微機(jī)電系統(tǒng)/微流體器件，SOI基片制造，3D封裝，納米壓印，化合物半導(dǎo)體器件和功率器件等領(lǐng)域。

  EVG610是一款非常靈活的、適用于研發(fā)和小批量試產(chǎn)的對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，可處理   大200mm之內(nèi)的各種規(guī)格的晶片。EVG610支持各種標(biāo)準(zhǔn)的光刻工藝，例如：真空、軟、硬接觸和接近曝光；也支持其他特殊的應(yīng)用，如鍵合對(duì)準(zhǔn)、納米壓印光刻、微接觸印刷等。EVG610系統(tǒng)中的工具更換非常簡(jiǎn)便快捷，每次更換都可在幾分鐘之內(nèi)完成，而不需要專門的工程人員和培訓(xùn)，非常適合大學(xué)、研究所的科研實(shí)驗(yàn)和小批量生產(chǎn)。

   

  二、應(yīng)用范圍

  EVG光刻機(jī)主要應(yīng)用于半導(dǎo)體光電器件、功率器件、微波器件及微電子機(jī)械系統(tǒng)（MEMS）、硅片凸點(diǎn)、化合物半導(dǎo)體等領(lǐng)域，涵蓋了微納電子領(lǐng)域微米或亞微米級(jí)線條器件的圖形光刻應(yīng)用。

   

  三、主要特點(diǎn)

• 支持背面對(duì)準(zhǔn)光刻和鍵合對(duì)準(zhǔn)工藝
• 自動(dòng)的微米計(jì)控制曝光間距
• 自動(dòng)契型補(bǔ)償系統(tǒng)
• 優(yōu)異的全局光強(qiáng)均勻度
• 免維護(hù)單獨(dú)氣浮工作臺(tái)
•    小化的占地面積
• Windows圖形化用戶界面
• 完善的多用戶管理（用戶權(quán)限、界面語(yǔ)言、菜單和工藝控制）

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