EVG 320  Automated Single Wafer Cleaning System

EVG 320  自動(dòng)化單晶圓清洗系統(tǒng)

自動(dòng)單晶片清洗系統(tǒng)，可有效去除顆粒

EVG320自動(dòng)化單晶圓清洗系統(tǒng)可在處理站之間自動(dòng)處理晶圓和基板。 機(jī)械手處理系統(tǒng)可確保在盒到盒或FOUP到FOUP操作中自動(dòng)預(yù)對(duì)準(zhǔn)和裝載晶圓。 除了使用去離子水沖洗外，配置選項(xiàng)還包括兆頻，刷子和稀釋的化學(xué)藥品清洗。

特征

多達(dá)四個(gè)清潔站

全自動(dòng)盒帶間或FOUP到FOUP處理

可進(jìn)行雙面清潔的邊緣處理（可選）

使用1 MHz的超音速噴嘴或區(qū)域傳感器（可選）進(jìn)行高效清潔

先進(jìn)的遠(yuǎn)程診斷

防止從背面到正面的交叉污染

*由軟件控制的清潔過(guò)程

EVG320技術(shù)數(shù)據(jù)

晶圓直徑（基板尺寸）200、100-300毫米

清潔系統(tǒng)

開(kāi)室，旋轉(zhuǎn)器和清潔臂

腔室：由PP或PFA制成（可選）

清潔介質(zhì)：去離子水（標(biāo)準(zhǔn)），其他清潔介質(zhì)（可選）

旋轉(zhuǎn)卡盤(pán)：真空卡盤(pán)（標(biāo)準(zhǔn)）和邊緣處理卡盤(pán)（選件），由不含金屬離子的清潔材料制成

旋轉(zhuǎn)：zui高3000 rpm（5秒內(nèi)）

超音速噴嘴：頻率：1 MHz（3 MHz選件）；輸出功率：30-60 W；

去離子水流量：zui高1.5升/分鐘；有效清潔區(qū)域：?4.0 mm；材質(zhì)：聚四氟乙烯

兆聲區(qū)域傳感器：可選的；