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詳細摘要：顯微鏡鑷，不銹鋼
產(chǎn)品編號描述單位
5443顯微鏡鑷，115mm把

詳細摘要：長：39.6mm
切口長度：38.8mm
寬：19.3mm
厚：0.23mm

詳細摘要：單面不銹鋼刀片，如手術(shù)刀一般鋒利，刀面光滑可靠。
長：56.8mm
切口長度：54.89mm
寬：13.3mm
厚：0.228mm

詳細摘要：用于拾取超薄切片，毛精細、耐用
產(chǎn)品編號描述單位
113超精細睫毛筆支

詳細摘要：產(chǎn)品編號描述單位
13550微型針系列，4支/套，含針套套
13551微型針，直，14cm支
13552微型針，環(huán)形彎曲狀，14cm支
13553微型針，曲形，14cm支
13554微型針，大彎曲狀，14cm支
13550-P針套 個

詳細摘要：為銀片在無機硅酸鹽水溶液中的分散液，特別為以下苛刻的應(yīng)用條件所設(shè)計：
?高溫，可高達927°C
?超高真空 – 無碳氫化合物，無VOC
低溫

詳細摘要：具有強的粘接能力和強的導(dǎo)電性能，可用于樣品導(dǎo)電連接、電路修復(fù)、芯片粘接，靜電放電和接地等。使用溫度：-91°C－100°C

詳細摘要：適用于在掃描電鏡樣品座上粘附如無機粉末、花粉、種子等小顆粒。
產(chǎn)品編號描述單位
16033Mikrostik™膠， 14ml瓶

詳細摘要：二氧化硅氧化石墨烯支持膜：基于超平SiO2 的氧化石墨烯支持膜，氧化石墨烯附在超平SiO2 基片上，通常用于研究實驗平臺。氧化石墨烯整個鋪在5x5mm的基片上，利用率約70%。

詳細摘要：氧化石墨烯鋪在多孔氮化硅上，多孔氮化硅的孔徑為2.5um，孔間距為4.5um， Si3N4的膜厚為200nm，窗口尺寸0.5x0.5mm 。氮化硅氧化石墨烯支持膜適合做生命科學(xué)研究。

詳細摘要：石墨烯膜覆蓋在5x5mm的基片上，使用率為75%，可提供單層、2層、3-5層和6-8層石墨烯。二氧化硅石墨烯支持膜作為一種超平實驗平臺，可適用于AFM成像。

詳細摘要：PELCO氧化石墨烯支持膜是來源于單層和2層PELCO石墨烯支持膜，與石墨烯支持膜不同的是石墨烯做了氧化處理。氧化處理后的膜具有親水性，更適合生命科學(xué)的應(yīng)用和研究。

詳細摘要：這種石墨烯產(chǎn)品是由多孔氮化硅支撐，在0.5x0.5mm的窗口上鋪了一層Si3N4，網(wǎng)格的孔徑為2.5um，孔間距為4.5um。石墨烯的使用率為75%，可提供單層、2層、3-5層和6-8層石墨烯。多孔氮化硅石墨烯支持膜適合UHR成像，或者作為一種實驗平臺。

詳細摘要：石墨烯直接鋪在2000目的銅網(wǎng)上，銅網(wǎng)的孔直徑6.5um，孔間距12.5um，這種銅網(wǎng)的透過率為41% 。2000目的銅網(wǎng)在鋪在1x2mm開槽的Synaptek基片上。2000目銅網(wǎng)石墨烯支持膜適合UHR成像，或者作為一種實驗平臺。

詳細摘要：這種石墨烯支持膜是基于300目銅網(wǎng)上的微柵膜上。我們可以提供單層、2層、3-5層和6-8層石墨烯膜，膜覆蓋與整個基片上。

詳細摘要：PELCO Tripod Polisher 590由IBM East Fishkill實驗室的研究人員設(shè)計，以準(zhǔn)確地制備預(yù)先的微米尺度區(qū)域的透射電鏡和掃描電鏡樣品。對于TEM樣品，該技術(shù)已成功地用于將離子研磨時間限制在15分鐘以內(nèi)，并且在某些情況下，消除了離子研磨的需要。

詳細摘要：脈沖激光沉積系統(tǒng)PLD：脈沖激光沉積（Pulsed Laser Deposition）是一種用途廣泛的薄膜沉積技術(shù)。脈沖激光快速蒸發(fā)靶材，生成與靶材組成相同的薄膜。

詳細摘要：ALD R-200原子層沉積系統(tǒng)：高質(zhì)量ALD薄膜的沉積技術(shù)，并在各種各樣的襯底上都表現(xiàn)的均勻性，包括挑戰(zhàn)性的通孔的、超高深寬比和顆粒等樣品。

詳細摘要：多參數(shù)表面等離子體共振分析儀MP-SPR Navi 200 OTSO：半自動MP-SPR Navi™ 200 OTSO。開放式設(shè)計非常適合用于教學(xué)目的、氣體測量、薄膜表征以及使用輔助設(shè)備。

詳細摘要：溫度范圍為 -196°C 至 +100°C

用于識別已經(jīng)冷凍的小瓶、試管、冷凍箱、塑料袋和其他容器的低溫膠帶。專為在液相和氣相液氮和超低溫冰箱中進行長期生物保存而設(shè)計。不建議在水浴和溶劑中孵育。重疊以獲得最佳性能。0.75 英寸寬 x