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詳細摘要： 輝光放電儀用于TEM銅網(wǎng)和支持膜清洗及表面處理，可改善親水性和疏水性。適用于經(jīng)常需要清洗銅網(wǎng)和支持膜，或需要大批量清洗的實驗室。

詳細摘要： Ted Pella公司的微波技術及方法帶來了組織處理領域的一場革新。相比于傳統(tǒng)處理方法，使用新一代PELCO BioWave® Pro+微波組織處理系統(tǒng)，不僅組織處理時間可節(jié)省高達95%，而且能始終如一地得到的實驗結果。樣品溫度及微波輻射功率的控制是有效利用微波技術的關鍵。

詳細摘要： Ted Pella公司的微波技術及方法帶來了組織處理領域的一場革新。相比于傳統(tǒng)處理方法，使用新一代PELCO 微波快速組織處理儀，不僅組織處理時間可節(jié)省高達95%，而且能始終如一地得到的實驗結果。樣品溫度及微波輻射功率的控制是有效利用微波技術的關鍵。

詳細摘要： PELCO精密研磨裝置適合在金相試樣、單晶片、電子材料、玻璃、巖石或其他材料樣品上制備平面、平行面等高度拋光的表面。研磨硬質(zhì)材料時，先用環(huán)氧樹脂等包埋樣品，可以避免圓角或過度拋光，特別適用于手工磨拋半導體、光學元件，以及凹坑前TEM樣品的減薄。PELCO研磨裝置可用于研磨直徑3mm至25mm、厚度不超過13mm的樣品。

詳細摘要： PELCO easiGlow輝光放電清潔儀是一套價格合理、結構緊湊、使用方便的系統(tǒng)，用于TEM銅網(wǎng)和支持膜清洗及表面處理。如親油性的TEM碳支持膜經(jīng)氣體輝光放電處理后，表面帶負電而呈親水性，水溶液因此容易被分散。

詳細摘要： 高純度的金屬濺射靶材適用于多種品牌的離子濺射儀： 包括PELCO®,Agar, Bal-Tec, Bio-Rad, Denton, Edwards, Emitech, Emscope, Gatan, ISI, JEOL, LEICA, Polaron, Quorum, and SPI.?這些磁控濺射靶材的直徑分為60,57,54,50和19mm。

詳細摘要： 產(chǎn)品編號描述包裝16071 鋁導電膠帶, 6.3mm寬x 16.4m 長 卷16071-1 , 12.7mm寬x 16.4m 長 卷16071-2 , 25.4mm寬x 16.4m 長 卷

詳細摘要： PELCO®FlipScribe®劃片機是一個緊湊、穩(wěn)定、準確、快速和低成本的劃線和裂解解決方案，適用于任何實驗室。

詳細摘要： PELCO LatticeAx120晶圓裂片機（以前來自LatticeGear™）包括一個裂片切割機，對樣品表面的壓痕作用進行精細的、可調(diào)節(jié)的控制，然后是一個精準控制的3點裂片步驟，用于生產(chǎn)高質(zhì)量的裂解樣品截面。

詳細摘要： PELCO®LatticeAx420晶圓劃片裂片切割機是PELCO® LatticeAx®晶圓劃片裂片切割系列中的頂配，是一款用于實驗室晶圓精密劃片裂片的切割機。

詳細摘要： 一款適用于實驗室的精密劃片裂片切割機

詳細摘要： PELCO Tripod Polisher 590由IBM East Fishkill實驗室的研究人員設計，以準確地制備預先的微米尺度區(qū)域的透射電鏡和掃描電鏡樣品。對于TEM樣品，該技術已成功地用于將離子研磨時間限制在15分鐘以內(nèi)，并且在某些情況下，消除了離子研磨的需要。

詳細摘要： 產(chǎn)品編號描述包裝16073雙面碳導電膠帶, 8mm 寬 x 20m長卷 16073-1 , 12mm寬x 20m長卷16073-2 , 20mm寬x 20m長卷16073-4 , 25mm寬x 20m長卷16073-3 , 50mm寬x 20m 長 卷16073-5 5mm 寬 x 20m長 卷

詳細摘要： Ted Pella碳導電膠液主要用于SEM非導電樣品的粘接。適用于需要強鍵和良好導電性的導電接合或導電涂料。

詳細摘要： Ted Pella TEM支持膜一般能用肉眼分清正反面，比較有光澤的是正面，暗淡的是反面，大多數(shù)類型的支持膜都覆在正面。

詳細摘要： 氧化石墨烯鋪在多孔氮化硅上，多孔氮化硅的孔徑為2.5um，孔間距為4.5um， Si3N4的膜厚為200nm，窗口尺寸0.5x0.5mm 。氮化硅氧化石墨烯支持膜適合做生命科學研究。

詳細摘要： 石墨烯膜覆蓋在5x5mm的基片上，使用率為75%，可提供單層、2層、3-5層和6-8層石墨烯。二氧化硅石墨烯支持膜作為一種超平實驗平臺，可適用于AFM成像。

詳細摘要： PELCO氧化石墨烯支持膜是來源于單層和2層PELCO石墨烯支持膜，與石墨烯支持膜不同的是石墨烯做了氧化處理。氧化處理后的膜具有親水性，更適合生命科學的應用和研究。

詳細摘要： 這種石墨烯產(chǎn)品是由多孔氮化硅支撐，在0.5x0.5mm的窗口上鋪了一層Si3N4，網(wǎng)格的孔徑為2.5um，孔間距為4.5um。石墨烯的使用率為75%，可提供單層、2層、3-5層和6-8層石墨烯。多孔氮化硅石墨烯支持膜適合UHR成像，或者作為一種實驗平臺。

詳細摘要： 石墨烯直接鋪在2000目的銅網(wǎng)上，銅網(wǎng)的孔直徑6.5um，孔間距12.5um，這種銅網(wǎng)的透過率為41% 。2000目的銅網(wǎng)在鋪在1x2mm開槽的Synaptek基片上。2000目銅網(wǎng)石墨烯支持膜適合UHR成像，或者作為一種實驗平臺。