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SWC4000 掩模版兆聲清洗機
SWC4000 掩模版兆聲清洗機：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復性、高均勻性及高潔凈度的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕...

型號：所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/8/20 17:06:29 對比

兆聲清洗機晶圓清洗機晶圓清洗設(shè)備硅片清洗設(shè)備半導體晶圓清洗設(shè)備
兆聲清洗機
兆聲清洗機：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕。該系統(tǒng)配套機械手，也可以升級...

型號： SWC系列/LSC... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/8/12 15:21:59 對比

兆聲清洗機晶圓清洗機兆聲無損清洗設(shè)備兆聲無損清洗機
進口晶圓清洗機
進口晶圓清洗機：Nano-Master進口兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復性、高均勻性及兆聲清洗。它可以在一個工藝步驟中包含了的無損兆聲清洗、化學試劑清洗、...

型號： SWC系列/LSC... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/8/12 14:47:36 對比

進口晶圓清洗機兆聲無損清洗機兆聲無損清洗設(shè)備進口掩模版清洗機兆聲無損硅片清洗
SWC-4000兆聲晶圓（掩模版）清洗機
SWC-4000兆聲晶圓（掩模版）清洗機：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕...

型號：所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/8/12 14:43:52 對比

進口濕法刻蝕系統(tǒng)兆聲無損晶圓清洗機兆聲掩模版清洗機兆聲無損硅片清洗機
SWC-5000全自動兆聲晶圓清洗機
SWC-5000全自動兆聲晶圓清洗機：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕。該...

型號：所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/8/12 14:32:03 對比

進口濕法刻蝕系統(tǒng)全自動濕法刻蝕系統(tǒng)全自動晶圓清洗機全自動掩膜板清洗機全自動硅片清洗機
硅片清洗機
硅片清洗機：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復性、高均勻性及兆聲清洗。它可以在一個工藝步驟中包含了的無損兆聲清洗、化學試劑清洗、刷子清洗...

型號： SWC系列/LSC... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2023/11/13 13:38:34 對比

硅片清洗機兆聲無損清洗機兆聲無損清洗設(shè)備兆聲無損硅片清洗單片晶圓清洗機
SWC-3000兆聲晶圓（掩模版）清洗機
SWC-3000兆聲晶圓（掩模版）清洗機：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復性、高均勻性及兆聲清洗。它可以在一個工藝步驟中包含了的無損兆...

型號：所在地：國外參考價：面議更新時間：2023/11/13 13:29:53 對比

兆聲無損清洗機進口掩模板清洗機單片晶圓清洗機兆聲無損硅片清洗機兆聲無損清洗設(shè)備
SWC-3000兆聲輔助光刻膠剝離系統(tǒng)
SWC-3000兆聲輔助光刻膠剝離系統(tǒng)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復性、高均勻性及的兆聲清洗，以及兆聲輔助的光刻膠剝離。它可以在一...

型號：所在地：國外參考價：面議更新時間：2023/11/13 11:27:21 對比

進口光刻膠剝離機進口光刻膠去膠機進口濕法去膠機
SWC-4000兆聲輔助光刻膠剝離系統(tǒng)
SWC-4000兆聲輔助光刻膠剝離系統(tǒng)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復性、高均勻性及的兆聲清洗，以及兆聲輔助下光刻膠剝離。它可以在一...

型號：所在地：國外參考價：面議更新時間：2023/11/13 11:25:36 對比

光刻膠剝離系統(tǒng)進口光刻膠剝離系統(tǒng)進口濕法去膠機兆聲去膠機

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