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產(chǎn)品分類品牌

Dymek岱美儀器量產(chǎn)型光刻機系統(tǒng) 參考價：面議

參考價：面議型號：HERCULES
光刻機Track系統(tǒng)通過集成的生產(chǎn)系統(tǒng)和結(jié)合掩模對準(zhǔn)和曝光以及集成的預(yù)處理和后處理的高度自動化功能，完善了EVG光刻機產(chǎn)品系列。HERCULES光刻機Track...
型號： HERCULES 品牌：EVG所在地：上海市 對比

HERCULESEVG納米壓印光刻機

2024/11/9 15:09:323188
Dymek岱美中國儀器自動掩模對準(zhǔn)系統(tǒng) 參考價：面議

參考價：面議型號：IQ Aligner NT
?新型IQ Aligner NT具有高強度和高均勻度的曝光光學(xué)器件，新的晶圓處理硬件，可實現(xiàn)全局多點對準(zhǔn)的200mm和300mm晶圓全覆蓋范圍以及優(yōu)化的工具軟件...
型號： IQ Aligne... 品牌：EVG所在地：上海市 對比

光刻機光刻掩膜掩模曝光

2024/11/9 16:20:011324
EVG620 NT-掩模對準(zhǔn)光刻機系統(tǒng) 參考價：面議

參考價：面議型號：Dymek岱美儀器
EVG620 NT-掩模對準(zhǔn)光刻機系統(tǒng)EVG ® 620 NT提供國家的本領(lǐng)域掩模對準(zhǔn)技術(shù)在小化的占位面積，支持高達150毫米晶圓尺寸。
型號： Dymek岱美儀器品牌：EVG所在地：上海市 對比

自動掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)對準(zhǔn)系統(tǒng)光刻機光刻機價格掩模對準(zhǔn)曝光機

2024/11/9 13:17:185260
EVG610-單面、雙面光刻系統(tǒng) 參考價：面議

參考價：面議型號：
EVG610-單面、雙面光刻系統(tǒng) EVG光刻機EVG®610是一款緊湊型多功能研發(fā)系統(tǒng)，可處理零碎片和大200 mm的晶圓。
型號：品牌：EVG所在地：上海市 對比

自動掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)對準(zhǔn)系統(tǒng)光刻機光刻機價格

2024/11/9 13:15:232268
EVG6200 NT掩模對準(zhǔn)光刻系統(tǒng) 參考價：面議

參考價：面議型號：
EVG6200 NT掩模對準(zhǔn)光刻系統(tǒng) 特色：EVG ® 6200 NT掩模對準(zhǔn)器為光學(xué)雙面光刻的多功能工具和晶片尺寸高達200毫米。
型號：品牌：EVG所在地：上海市 對比

自動掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)對準(zhǔn)系統(tǒng)光刻機光刻機價格納米壓印機

2024/11/9 13:13:263106
IQ Aligner 自動掩模對準(zhǔn)系統(tǒng) 參考價：面議

參考價：面議型號：
IQ Aligner 自動掩模對準(zhǔn)系統(tǒng) 用于自動非接觸近距離掩模對準(zhǔn)光刻，進行了處理和優(yōu)化，用于晶圓片的尺寸高達200毫米。
型號：品牌：EVG所在地：上海市 對比

自動掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)對準(zhǔn)系統(tǒng)光刻機光刻機價格

2024/11/9 12:34:332151
光刻膠勻膠機參考價：面議

參考價：面議型號：EVG101
研發(fā)和小規(guī)模生產(chǎn)中的單晶圓光刻膠加工。 EVG101光刻膠勻膠機在單室設(shè)計上可以滿足研發(fā)工作，與EVG的自動化系統(tǒng)*兼容。EVG101支持大300 mm的晶圓，...
型號： EVG101 品牌：所在地：上海市 對比

勻膠機勻噴膠機微流控加工光刻膠加工EVG101

2024/11/9 12:12:233632
EVG單面/雙面掩模對準(zhǔn)光刻機參考價：面議

參考價：面議型號：EVG610
EVG單面/雙面掩模對準(zhǔn)光刻機EVG610（單面/雙面掩模對準(zhǔn)光刻機微流控納米壓?。┲С指鞣N標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝，如真空，硬，軟接觸和接近式曝光模式，可選擇背部對準(zhǔn)...
型號： EVG610 品牌：EVG所在地：上海市 對比

EVG光刻機微流控EVG微流控芯片接觸式光刻機

2024/11/9 12:10:298570