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scrubber全類型尾氣處理設(shè)備-scrubberPX 0
金屬有機化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)MOVPE設(shè)備PX 2972
NLD-4000(ICPM)PEALD系統(tǒng)PX 2972
NLD-3500(A)全自動原子層沉積設(shè)備PX 2972
NLD-4000(A)全自動原子層沉積系統(tǒng)PX 2972
NLD-3000原子層沉積系統(tǒng)PX 2972
NPE-4000(ICPA)全自動ICPECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PX 2972
NPE-4000(ICPM)ICPECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PX 2972
NPE-4000(A)全自動PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PX 2972
NPE-4000(M)PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PX 2972
NPE-3500 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PX 2972
NPE-3000 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PX 2972
非標定制熱絲法化學(xué)氣相沉積CVD金剛石PX 0
非標定制等離子體增強化學(xué)氣相沉積 PECVDPX 0
非標定制化學(xué)氣相沉積LPCVDPX 0
PlasmaPro 80 PECVDPX 0
PlasmaPro 800 PECVDPX 0
PlasmaPro 80 ICPCVDPX 0
PlasmaPro 100 PECVDPX 0
PlasmaPro 1000PX 0
PlasmaPro 100 ICPCVDPX 0
FPPIC-R-200-standard科研型原子層沉積系統(tǒng),picosun公司ALD系統(tǒng)PX 4378
FPANR-AT410ALD系統(tǒng),共形導(dǎo)電薄膜,原子層沉積PX 4378
FPANG-COVAPCOVAP物理氣相沉積系統(tǒng),PVD系統(tǒng)PX 4378
FPANG-AMOD物理氣相沉積平臺PVD,濺射,電子束蒸發(fā)PX 4378
FPTOR-IBD離子束沉積系統(tǒng),離子shu沉積濺射鍍膜PX 4378
熱絲CVD PC-005熱絲CVD金剛石設(shè)備PX 0
PECVD設(shè)備 PC-006PECVD設(shè)備PX 0
LPCVD設(shè)備 PC-007LPCVD設(shè)備PX 0
MOCVD設(shè)備 PC-008MOCVD設(shè)備PX 0
FPCHE-CVD獨立式化學(xué)氣相沉積(CVD)系統(tǒng)PX 4378
NPE-3500 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PX 3220
HMPS-2060SP微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)MPCVD爐PX 0
GKD-CVD薄膜材料制備化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) CVD爐PX 0
CVD氣相沉積系統(tǒng) 化學(xué)氣相 沉積爐PX 0
1200℃ CVD化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)單晶制備管式爐PX 0
DH-30-700大華CVD化學(xué)氣相沉積碳鍍膜機PX 0
DH-30-700(大華)高溫化學(xué)氣相沉積碳鍍膜機PX 0
BTF-1200C-R-S-PECVD化學(xué)氣相沉積PX 0
WBMW-QXCJ4任氏巨源 微波化學(xué)氣相沉積爐PX 0
薄膜生長設(shè)備
工藝測量和檢測設(shè)備
集成電路測試與分選設(shè)備
光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
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日本原產(chǎn)Microphase分子束外延系統(tǒng)完善售后服務(wù)
德國MBE 分子束外延系統(tǒng)OCTOPLUS 500 產(chǎn)品關(guān)鍵詞:外延系統(tǒng);MBE分子束外延德國
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薄膜沉積CVD
迷你原子層沉積系統(tǒng)-可放入手套箱
氣相液相儀華粵行IVF顯微操作胚胎移植
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等離子增加化學(xué)氣相沉積CVD系統(tǒng)
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