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C2GR16-立式氣相沉積爐PX 2690
PICOSUN R-200標準型ALD系統(tǒng)PX 1610
C2GR16-氣相沉積爐PX 2712
SAL1000G原子層沉積系統(tǒng)PX 3202
GS-30-700廣樹CVD化學氣相沉積碳鍍膜機PX 3756
日本原產Microphase分子束外延系統(tǒng)完善售后服務PX 3220
ACU20FDH-LH沉積設備用高溫分體氣體流量控制器及流量計PX 3288
MS450實驗室真空鍍膜設備PX 5115
PLUTO-MC真空等離子體涂覆薄膜沉積設備PX 2227
ICP-500D薄膜沉積CVDPX 3255
氣相液相儀華粵行IVF顯微操作胚胎移植PX 2029
TFS 200原子層沉積研究設備PX 1800
PECVD+RIE等離子體增強化學氣相沉積設備PX 2729
GM10/100/1000正極材料包覆PX 2807
微波等離子化學氣相沉積系統(tǒng)PX 2972
FPSEM-ICP200D等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)PX 4378
超高真空磁控濺射外延系統(tǒng)PX 4054
國產PLD脈沖激光分子束外延裝置PX 1845
TF-1200-PECVD等離子增強化學氣相沉積系統(tǒng)PX 2430
AT-600原子層沉積系統(tǒng)PX 3230
MFC-5ZCVD化學氣相沉積多通道質量流量控制系統(tǒng)PX 3606
CVD化學氣相沉積裝置PX 3097
CYRANNUS微波等離子化學氣相沉積系統(tǒng)PX 2907
FL-800N物理氣相沉積設備(PVD)冷水機-冷卻系統(tǒng)PX 6764
P 系列粉末原子層沉積系統(tǒng)PX 3147
ZT-60-15立式化學氣相沉積爐PX 4109
ALD R-200原子層沉積系統(tǒng)PX 2966
等離子體化學氣相沉積設備PX 1930
VE-2012日本shinkuu真空簡單的真空氣相沉積系統(tǒng)PX 4972
轉移多壁碳納米管垂直陣列(化學氣相沉積法)PX 4162
Trion Orion HDCVDTrion Orion HDCVD高密度化學氣相沉積系統(tǒng)PX 2456
TF1200-PECVD型等離子增強化學氣相沉積系統(tǒng)PX 3728
AT 200M迷你原子層沉積系統(tǒng)-可放入手套箱PX 1610
CVTD 材料氣相輸運與沉積系統(tǒng)PX 1610
原子團簇束流系統(tǒng)桌面式PX 0
WBMW-QXCJ4任氏巨源實驗室常用微波化學氣相沉積系統(tǒng)PX 0
WBMW-DLZ3巨源實驗室常用微波等離子體化學氣相沉積PX 0
GS-30-700(廣樹)高溫化學氣相沉積碳鍍膜機PX 3756
德國MBE 分子束外延系統(tǒng)OCTOPLUS 500 產品關鍵詞:外延系統(tǒng);MBE分子束外延德國PX 3220
德國MBE 分子束外延系統(tǒng)OCTOPLUS 400 產品關鍵詞:mbe產品;mbe一臺;mbe分子束外延系統(tǒng);分子束外延系統(tǒng);分子束外延系統(tǒng)(mbe)彩頁;分子束mbe;mbe系統(tǒng);mbe分子束...PX 3220
薄膜生長設備
工藝測量和檢測設備
集成電路測試與分選設備
光刻及涂膠顯影設備
熱工藝設備/熱處理設備
硅片制備/晶體生長設備
掩模版和中間掩模版制造設備
離子注入設備
干法工藝設備
濕法工藝設備
組裝與封裝設備
其它半導體行業(yè)儀器設備
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薄膜沉積CVD
迷你原子層沉積系統(tǒng)-可放入手套箱
氣相液相儀華粵行IVF顯微操作胚胎移植
工業(yè)半導體微納加工二維材料實驗室設備
PE鉑金埃爾默ICPMS
真空等離子體涂覆薄膜沉積設備
等離子增加化學氣相沉積CVD系統(tǒng)
上海衡平儀器儀表有限公司
賽默飛色譜及質譜
上海平軒科學儀器有限公司
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