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電子束蒸鍍設備

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更新時間：2024-11-18 21:00:07

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產(chǎn)品簡介詳細介紹

簡要描述：電子束蒸鍍設備是一種實用且高度可靠的系統(tǒng)。我們的系統(tǒng)可針對量產(chǎn)使用單一坩堝也可以有多個坩堝來達到產(chǎn)品多層膜結(jié)構(gòu)。在基板乘載上我們對應半導體研究和大型設備設計。單片和多片公自轉(zhuǎn)的設計可以控制蒸發(fā)速率，薄膜厚度和均勻度小於+/- 3％。

電子束蒸鍍設備介紹

SYSKEY的電子束沉積是一種實用且高度可靠的系統(tǒng)。我們的系統(tǒng)可針對量產(chǎn)使用單一坩堝也可以有多個坩堝來達到產(chǎn)品多層膜結(jié)構(gòu)。在基板乘載上我們對應半導體研究和大型設備設計。單片和多片公自轉(zhuǎn)的設計可以控制蒸發(fā)速率，薄膜厚度和均勻度小於+/- 3％。

電子束蒸鍍設備應用領域	腔體
光學材料研究(LED/Laser Diode)。光電元件。半導體元件。	由304不銹鋼所製成，通過外部焊接304不銹鋼管線對腔體進行水冷。寬大的前開式門，並有兩個視窗和視窗遮版用於觀察基材和電子束源。腔體的極限真空度約為10-8 Torr。
配置和優(yōu)點	選件
客製化的基板尺寸，直徑可達12寸晶圓。單載片或多載片（2" x 32個，4" x 16個，6" x 6個，8" x 4個）。優(yōu)異的薄膜均勻度小於±3％。具有水冷坩堝的多組坩鍋旋轉(zhuǎn)電子束源（1/2/4/6坩堝）。自動鍍膜系統(tǒng)。具有順序操作或共沉積的多個電子束源。基板具有冷卻（液態(tài)氮溫度低至-70°C）或加熱（溫度800°C）等功能。	可以與傳送腔、機械手臂和手套箱整合在一起。結(jié)合離子源、濺鍍槍、熱蒸發(fā)源、等離子清潔...。