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當前位置:北京盈思拓科技有限公司>>薄膜、塊體樣品制備>>ALD原子層沉積設備>> PICOSUN P-300B型原子層沉積系統(tǒng)
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產(chǎn)品型號PICOSUN P-300B型
品 牌
廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
所 在 地
更新時間:2024-11-18 15:50:15瀏覽次數(shù):127次
聯(lián)系我時,請告知來自 化工儀器網(wǎng)PICOSUN®P-300B ALD 系統(tǒng)是專為生產(chǎn) MEMS 設備(例如打印頭,傳感器和麥克風) 以及各種3D 物品(例如機械零件,玻璃或金屬薄板,硬幣,手表零件和珠寶,鏡片,光學器件以及醫(yī)療設備和植入物。
該系統(tǒng)已經(jīng)成為高產(chǎn)能ALD制造業(yè)的新標準。擁有的熱壁、獨立的前驅(qū)體管路和特殊的載氣設計,確保我們可以生產(chǎn)出具有優(yōu)異的成品率、低顆粒水平和的電學和光學性能的高質(zhì)量ALD薄膜。高效緊湊的設計使得維護更加方便、快捷,限度的減少了系統(tǒng)的維護停工期和使用成本。擁有技術的Picoflow™使得在超高深寬比結(jié)構上沉積保形性薄膜更高效,并已在生產(chǎn)線上得到驗證。
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