目錄:北京鴻瑞正達(dá)科技有限公司>>高真空鍍膜機(jī)>> 微型PECVD系統(tǒng)
產(chǎn)品簡介: 微型 PECVD 系統(tǒng)采用 ? 3" × 16" 的石英腔體, 內(nèi)部設(shè)有加熱圈對樣品進(jìn)行加熱, 溫度可 以達(dá)到 400℃ ,且采用程序化控溫,系統(tǒng)還配有 2 通道混氣裝置和雙旋機(jī)械泵,整套系統(tǒng)安放于移動架上, 便于實(shí)驗(yàn)操作。本系統(tǒng)系對于薄膜生長和納米線的制作是的選擇。
產(chǎn)品型號 | 微型 PECVD 系統(tǒng) |
安裝條件 | 本設(shè)備要求在海拔 1000m 以下, 溫度 25℃±15℃ ,濕度 55%Rh±10%Rh 下使用。 1、水:不需要 2、電: AC220V 50Hz,必須有良好接地 3、氣:設(shè)備腔室內(nèi)需充注氣體,需自備氣瓶氣源 4、工作臺: 尺寸 600mm×600mm×700mm ,承重 50kg 以上 5、通風(fēng)裝置:需要 |
主要特點(diǎn) | 1、加熱圈套有石英罩,以減小熱量損失。 2、樣品可置于加熱線圈內(nèi),以達(dá)到更好的加熱效率和溫度均勻性。 3 、采用 PID 方式調(diào)節(jié)溫度, 可設(shè)置 30 段升降溫程序。 4、設(shè)有一滑動法蘭安裝于移動加上,以便于樣品的放入和取出。 |
5 、已通過 CE 認(rèn)證。 | |
技術(shù)參數(shù) | 等離子源 1、等離子體射頻電源: 110V/220V 50Hz/60Hz <100W 2、輸出頻率: 13.56MHz |
3、射頻功率: 7.2W 、10.5W 、18W 三檔,可調(diào)節(jié) 4、腔體尺寸: 外徑 ?76.2mm×內(nèi)徑 ?68.58mm×長 406.4mm | |
5 、加熱圈: 電源 220V ,功率 500W ,外徑 ?50mm×內(nèi)徑 ?40mm×70mm ,并套有內(nèi)徑 ?50.8mm×?75mm 的石英罩 6、法蘭: ?3″不銹鋼法蘭, 設(shè)有 KF-25 真空泵接口、 1/4″卡套接頭、不銹鋼針閥 7、通入氣體:可通入多種惰性氣體, 如 N2 、Ar,不可通入易燃易爆性氣體 8、真空度: 10-2torr (機(jī)械泵) | |
兩通道混氣系統(tǒng) 1、浮子流量計(jì): 10ml/min-100ml/min ,2 個 2、針閥: 304 不銹鋼針閥, 3 個 3、壓力表: -0.1MPa-1.0MPa(0.01MPa/grid), 3 個 | |
真空泵 1、抽氣速率: 120L/min 2、接口: KF-25 | |
產(chǎn)品規(guī)格 | 1 、尺寸: 等離子源 216mm×254mm×203mm ,控制盒 102mm×254mm×203mm,兩通道混 氣系統(tǒng) 340mm×300mm×180mm ,移動架 600mm×600mm×1250mm 2、重量: 32kg |
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