目錄:北京鴻瑞正達科技有限公司>>低真空鍍膜機>> VTC-16-SM小型高能直流磁控濺射儀
| 產地類別 | 國產 | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 電子,電氣,綜合 |
產品簡介：
VTC-16-SM小型高能直流磁控濺射儀是一款桌面式等離子磁控濺射鍍膜儀，包含一個2英寸水冷靶頭（另有1英寸靶頭可選）和可旋轉樣品臺。水冷靶頭使鍍膜后的樣品表面不會因鍍膜溫度過高而變形，甚至損壞樣品；樣品臺可旋轉，可以使樣品邊旋轉邊鍍膜使鍍膜后的樣品表面膜后均勻。設備外形小巧，性價比高，是制作各種金屬薄膜理想的鍍膜設備，可選配各種金屬靶材和真空泵搭配設備使用。
VTC-16-SM小型高能直流磁控濺射儀采用PLC控制面板對設備進行控制，操作方便直觀。
用直流磁控濺射儀可獲得單相Al膜
產品名稱 | VTC-16-SM 小型高能直流磁控濺射儀 |
產品型號 | VTC-16-SM |
| 技術參數(shù) | 1、輸入電源： 220VAC 50/60Hz 2、濺射電流： 0-150 mA 可調 3、功率：＜2KW 4、輸出電壓： 1600VDC（ max） 5、濺射腔體 采用石英腔體，尺寸： 166mm OD x 150mm ID x 290mm H 密封： 采用 O 形密封圈密封 6、濺射頭&樣品臺 2 英寸帶水冷的磁控濺射頭（注意：水冷機不是標配） 另有 1 英寸靶頭可選（圖一） 一個直徑 50mm 不銹鋼樣品臺，樣品臺可旋轉， 旋轉速率 0-5 RPM （圖五） 安裝有一可手動操作的濺射擋板（圖二、三） 樣品臺和靶頭之間的距離可以調節(jié)，調節(jié)范圍： 30-80mm （圖二、三） 靶頭支架，可以在非濺射狀態(tài)放置濺射靶頭（圖四） 濺射面積： 4 英寸（ max ）（參考值，詳情請點擊） 圖一 圖二 圖三 圖四 圖五 7、控制面板 6"PLC 集成觸摸屏控制面板，可控制真空、電流、靶材位置和基片加熱溫度 8、真空系統(tǒng) 安裝有 KF25 真空接口
|
對于濺射各種金屬靶材，需要摸索理想的濺射參數(shù)，下表是本公司實驗所設置的參數(shù)
產品外型尺寸 L460 mm × W 330 mm × H 520 mm 凈重： 20 kg （不包含泵及水冷機） | ||||||||||||||||
可選配件 | 可在本公司選購薄膜測厚儀安裝在濺射儀上（見圖一） 可選加熱樣品臺，加熱溫度可達 500℃（見圖二、三） 可選浮子流量計來精 確控制進氣量（見圖四）
圖一 圖二 圖三 圖四 | |||||||||||||||
質量認證 | CE 認證 | |||||||||||||||
質保期 | 一年保修，終身技術支持 特別提示： 1.耗材部分如加熱元件，石英管，樣品坩堝等不包含在內 2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內 |
注意：產品內部安裝有高壓元件，禁止私自拆裝，帶電移動機體。
氣瓶上應安裝減壓閥（設備標配不包括），保證氣體的輸出壓力限制在0.02兆帕以下，以安全使用。濺射頭連接到高電壓。為了安全，操作者必須在關閉設備前裝樣和更換靶。
1
化工儀器網(wǎng)