目錄:蘇州華維納納米科技有限公司>>LDW-L納米激光直寫(xiě)系統(tǒng)>> HWN-L8新型納米激光直寫(xiě)系統(tǒng)
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更新時(shí)間：2024-09-25 16:27:18瀏覽次數(shù)：729評(píng)價(jià)
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| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工 | 激光波長(zhǎng) | 405nm |
|---|---|---|---|
| 特征尺寸 | 100nm | 激光功率 | 120mW至300mW（可選） |
| 芯片尺寸 | 8英寸 | 刻寫(xiě)范圍 | 50mm×50mm至100mm×100mm（可選） |
HWN-L8新型納米激光直寫(xiě)系統(tǒng)擅長(zhǎng)wafer尺寸的研究開(kāi)發(fā)和小批量生產(chǎn)
HWN-L8新型納米激光直寫(xiě)系統(tǒng)是一款大面積、高精度、可套刻、超衍射極限加工的激光直寫(xiě)系統(tǒng)，可用于晶圓尺寸的大面積微納加工，適用于各種微納結(jié)構(gòu)和器件制造、小批量微納器件生產(chǎn)等。該系列包括L50、L100等不同型號(hào)，具有功能強(qiáng)大、維護(hù)簡(jiǎn)單、加工分辨率高、支持多種刻寫(xiě)模式、支持多種受體材料等特征。另外，本系統(tǒng)在設(shè)計(jì)之初保留了充足的物理空間和硬件資源，以滿足后續(xù)功能升級(jí)換代的需求，使產(chǎn)品具有更長(zhǎng)的生命周期。
蘇州華維納納米科技有限公司于2011年注冊(cè)成立的高科技創(chuàng)新型公司，主要從事新型納米光刻技術(shù)和無(wú)掩模納米光刻機(jī)的研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化工作。
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