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更新時(shí)間：2024-09-11 15:17:45瀏覽次數(shù)：767評(píng)價(jià)
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| 產(chǎn)地類別 | 國(guó)產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工 |
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聲光偏轉(zhuǎn)器（AODF）
—Gooch＆Housego 公司
G&H聲光偏轉(zhuǎn)器(AODF)可以對(duì)光束進(jìn)行精確的空間控制，無論是進(jìn)行1維或2維掃描，還是通過固定的角度進(jìn)行光束偏轉(zhuǎn)。我們的聲光偏轉(zhuǎn)器在全掃描角度上提供高度均勻的衍射效率，并為材料處理和數(shù)字成像等掃描應(yīng)用提供一致的功率吞吐量。
在AO偏轉(zhuǎn)器中，RF聲波通過晶體時(shí)會(huì)衍射光。因此，通過保持聲波的功率恒定并改變其頻率，可以改變或掃描輸出衍射束的角度。衍射角的總可能范圍很小，通常不超過幾度，從而可以在該角度范圍內(nèi)分辨出幾百個(gè)至最多約兩千個(gè)點(diǎn)（或1 / e強(qiáng)度級(jí)別與光束直徑重疊）。掃描時(shí)間可能快至幾微秒?？煞直婀獍叩目倲?shù)由聲波在AO晶體中穿過光束所需的時(shí)間（為訪問時(shí)間）和工作頻率帶寬定義。 G＆H提供多種標(biāo)準(zhǔn)偏轉(zhuǎn)器和RF驅(qū)動(dòng)器，適用于266-1500 nm的波長(zhǎng)。
選擇正確的RF驅(qū)動(dòng)器對(duì)于實(shí)現(xiàn)所需的掃描速度和精度很重要。掃描或?qū)懭霊?yīng)用中使用的偏轉(zhuǎn)器需要穩(wěn)定且高度線性的可變頻率源。
二維UV光束掃描可通過串聯(lián)兩個(gè)UV偏轉(zhuǎn)器來實(shí)現(xiàn)。我們具有相位同步輸出功能的靈活功能AODF雙驅(qū)動(dòng)器為2D掃描提供了RF驅(qū)動(dòng)器控制。
衡量偏轉(zhuǎn)器的主要參數(shù)有：1.偏轉(zhuǎn)的角度范圍；2.分辨率。偏轉(zhuǎn)的角度范圍是激光束的可變角度，它取決于器件的頻率范圍。
G&H公司可以為批量的OEM應(yīng)用提供定制化的AOD解決方案或者高速的多通道聲光偏轉(zhuǎn)器（multi-channel deflectors）。
產(chǎn)品參數(shù)特點(diǎn)：
波長(zhǎng)范圍：266nm 到 1550nm
驅(qū)動(dòng)頻率：55MHz 到 432MHz
掃描角度：最高可達(dá)60mrad
產(chǎn)品型號(hào)：
| 產(chǎn)品型號(hào) | 偏轉(zhuǎn)模式 | 工作波長(zhǎng) | 射頻頻率 （MHz） | 通光孔徑 （mm） | 衍射效率 | 掃描角度 (mrad) |
| 4070 | Longitudinal | 9.4um | 50-90 | 直徑:9 | 80% | 60 |
| 4200-UV | Longitudina | 266nm | 135-265 | 1*60 | 80% | 5.5 |
| 4170 | Longitudina | 355nm | 130-210 | 7*20 | 80% | 4.9 |
| 4100-UV | Shear, on Axis | 364nm | 75-125 | 4*14 | 80% | 29.5 |
| 4200-VI | Shear, on Axis | 405-488nm | 150-250 | 直徑:4.8 | 70% | 58 |
| 4090-7 | Shear, on Axis | 440-532nm | 60-115 | 直徑:8.5 | 70% | 44 |
| 4100-VI | Slow Shear | 488nm | 75-125 | 4*14 | 70% | 39.5 |
| 4085 | Slow Shear | 750-1064nm | 55-110 | 3.5*14 | 70% | 42.5 |
| 4055-4 | Shear, on Axis | 780-980nm | 35-70 | 3.5*14 | 80% | 44.3 |
| 4200-IR | Longitudina | 830nm | 140-280 | 2*6 | 35% | 27.6 |
| 4075-IR | Longitudina | 1065-1100nm | 59-91 | 直徑:2.5 | 70% | 8.1 |
應(yīng)用領(lǐng)域：
數(shù)字成像，外差干涉測(cè)量，激光冷卻，激光打標(biāo)，光鑷，材料加工，微機(jī)械加工，顯微鏡，在線過程控制，光學(xué)檢查，光刻，印刷
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