目錄:北京格微儀器有限公司>>離子濺射儀>>全自動(dòng)離子濺射儀>> GVC-1000射頻磁控濺射鍍膜儀
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更新時(shí)間：2024-11-07 15:07:52瀏覽次數(shù)：745評(píng)價(jià)
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| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子,綜合 |
GVC-1000射頻磁控濺射鍍膜儀（全自動(dòng)離子濺射儀）主要適用于掃描電鏡鍍覆導(dǎo)電膜，儀器操作簡單方便，是樣品制備所必要的儀器。適用的靶材：金、鉑、金鈀合金、銀、鉛、銅、鉻、銻等！
描述
1、離子濺射儀工作原理：磁控濺射；
2、可選靶材：金，鉑，金鈀合金，鉛，銀，銅，鉻，銻等；
3、真空室：φ128×100高硅硼玻璃；
4、全自動(dòng)操作，簡單易用，非常適用鎢燈絲、臺(tái)式掃描電鏡等；
濺射電流自動(dòng)調(diào)整—設(shè)定濺射電流后，系統(tǒng)自動(dòng)調(diào)節(jié)真空度，從而達(dá)到設(shè)定的濺射電流，調(diào)整時(shí)間＜5s，波動(dòng)范圍＜±5%；
5、無需按“實(shí)驗(yàn)"鍵調(diào)整濺射電流、無需操作“進(jìn)氣閥"：
（1）濺射時(shí)間自動(dòng)記憶——同類樣品一次設(shè)定即可；
（2）參數(shù)改變自動(dòng)調(diào)整——濺射過程中可以隨時(shí)調(diào)整濺射電流和濺射時(shí)長，系統(tǒng)自動(dòng)計(jì)算疊加，無需終止濺射過程；
（3）工作完成自動(dòng)放氣；
（4）樣品臺(tái)高度調(diào)節(jié)1秒完成；
（5）濺射過程可以利用曲線顯示，清晰直觀；
（6）極限真空：小于1Pa；
6、軟硬件互鎖，防誤操作，安全可靠：
（1）真空度高于100Pa，啟動(dòng)真空保護(hù)，無法濺射；
（2）濺射電流高于50mA，停止濺射過程；
（3）真空泵工作時(shí)，系統(tǒng)無法進(jìn)行放氣操作；
7、GVC-1000射頻磁控濺射鍍膜儀鍍層均勻，導(dǎo)電性良好。
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