產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
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儀器種類 | 冷場(chǎng)發(fā)射 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子 |
背散射電子圖像分辨率 | 1.6nm?(1kV) | 二次電子圖象分辨率 | 0.4nm?(30kV) |
放大倍數(shù) | 60X?~?10,000X?(低倍模式)? | 加速電壓 | ?0.5~30kV |
產(chǎn)品簡(jiǎn)介
詳細(xì)介紹
二手電鏡+在售 日立超高分辨率電子顯微鏡超高分辨率的顯微分析對(duì)設(shè)備有特殊的要求,以便可以得到新的信息及展現(xiàn)納米世界的秘密。S- 5500*可以滿足這些需要。
電子光學(xué)
電子槍:冷場(chǎng)發(fā)射電子源
透鏡系統(tǒng): 3級(jí)電磁透鏡 系統(tǒng)
物鏡光欄:可變型(4孔可選,在真空系統(tǒng)外進(jìn)行微調(diào),100-50- 50-30um)
消像散線圈:八極電磁線圈系統(tǒng)
掃描線圈: 2級(jí) 電磁偏轉(zhuǎn)線圈(高倍模式) ; 1級(jí)電磁線圈(低倍模式)
電子束遮擋:靜電型(與掃描線圈同步)
二手電鏡+在售 日立超高分辨率電子顯微鏡可以保證0.4nm的超高分辨率,從而獲得新的信息并展現(xiàn)納米世界的秘密。
主要特點(diǎn):
1.新型的物鏡設(shè)計(jì)可以使其達(dá)到高分辨率: 0.4nm(30kV)。
2.保證分辨率為0.4nm (30kV), 1.6nm (1kV)。
3. Hitachi的技術(shù)ExB可以讓操作者優(yōu)化圖像中SE和BSE信號(hào)的比例
4.新開發(fā)的BF/DF雙STEM檢測(cè)器可以同時(shí)顯示BF像及DF像。在DF STEM模式中還可以改變檢測(cè)角度。
5.電子光學(xué)系統(tǒng)的改進(jìn)可以不用改變樣品位置而同時(shí)進(jìn)行EDS分析及形貌觀察。
6.可以使用與FIB兼容的樣品桿。
7.Cold trap可以實(shí)現(xiàn)在超低電壓下抑制樣品"碳污染",提升低加速電壓下的圖像分辨串。