1.EC400是一臺高真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備。
2.設(shè)備主要由真空室、蒸發(fā)源、膜厚監(jiān)測儀、樣品臺、真空獲得系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸摸屏自動控制系統(tǒng)等組成。
3.該設(shè)備主機與控制一體化設(shè)計，操控方便；結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小。
蒸發(fā)鍍膜設(shè)備的用途：
蒸發(fā)鍍膜設(shè)備是指把待鍍膜的基片或工件置于真空室內(nèi)，通過對鍍膜材料加熱使其蒸發(fā)氣化而沉積于基體或工件表面并形成薄膜或涂層的工藝過程?？稍诟哒婵障抡舭l(fā)高質(zhì)量的不同厚度的金屬薄膜。蒸鍍薄膜種類：Au,Cr,Ag,Al,Cu,In,有機物等。
蒸發(fā)鍍膜設(shè)備的組成：
有機/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)；真空測量系統(tǒng)；蒸發(fā)源；樣品加熱控溫；電控系統(tǒng)；配氣系統(tǒng)等部分組成。
1.EC400是一臺高真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備。
2.設(shè)備主要由真空室、蒸發(fā)源、膜厚監(jiān)測儀、樣品臺、真空獲得系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸摸屏自動控制系統(tǒng)等組成。
3.該設(shè)備主機與控制一體化設(shè)計，操控方便；結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小。
4.主要用途：
1. 開發(fā)納米級單層、多層及復(fù)合膜層等。
2. 制備金屬膜、合金膜、半導(dǎo)體膜、陶瓷膜及介質(zhì)膜等，例：銀、鋁、 銅、C60、BCP......
5.應(yīng)用領(lǐng)域：
1. 高校、科研院所的教學(xué)、科研實驗及生產(chǎn)型企業(yè)前期探索性實驗及開發(fā)新產(chǎn)品等。
2. 鈣鈦礦太陽能電池、OLED、OPV 太陽能電池等行業(yè)。
6.小型實驗設(shè)備的理想選擇/性能滿足各種實驗需求/專業(yè)的服務(wù)確保用戶省心省力
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