1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設備。
2.設備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統(tǒng)、真空獲得系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸摸屏自動控制系統(tǒng)等組成。
3.該設備主機與控制一體化設計，操控方便；結構緊湊，占地面積小。
多功能鍍膜設備為立式雙開門結構，是一款集直流磁控濺射鍍膜技術、電阻蒸發(fā)鍍膜技術、CVD鍍膜技術及中頻離子清洗系統(tǒng)相結合的復合型設備，適應客戶復雜的產(chǎn)品工藝切換；真空室內(nèi)可一次性完成金屬膜及保護膜制程，防止二次工序污染。
多功能鍍膜設備結構緊湊，占地面積小；雙開門結構，無待機時間，生產(chǎn)效率高；膜層均勻性好，光潔度高。設備可適用于車燈、車標、車內(nèi)飾件等不同產(chǎn)品，可鍍制金屬膜層，如Ti、Cu、Al、Cr、Ni、SUS、Sn、In等材料。
1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設備。
2.設備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統(tǒng)、真空獲得系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸摸屏自動控制系統(tǒng)等組成。
3.該設備主機與控制一體化設計，操控方便；結構緊湊，占地面積小。
4.主要用途：
1. 開發(fā)納米級單層、多層及復合膜層等。
2. 制備金屬膜、合金膜、半導體膜、陶瓷膜及介質(zhì)膜等，例：銀、鋁、 銅、鎳、鉻、鎳鉻合金、氧化鈦、氮化鈦、氮化鉻、ITO......
3. 兩靶單獨濺射、依次濺射、共同濺射。
5.應用領域：
1. 高校、科研院所的教學、科研實驗及生產(chǎn)型企業(yè)前期探索性實驗及開發(fā)新產(chǎn)品等。
2. 鈣鈦礦太陽能電池、OLED、OPV 太陽能電池等行業(yè)。
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