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當(dāng)前位置:上海攸亦光電科技有限公司>>光學(xué)儀器>>顯微鏡>> 暗場光譜成像顯微鏡 - InFocus λ DS
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所 在 地上海市
更新時間:2024-11-28 16:36:02瀏覽次數(shù):35次
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InFocus λ - 全新顯微光譜技術(shù)
一種用于觀察納米顆粒的暗場顯微鏡,加上快速、高清晰度的暗場光譜成像。等離子體增強(qiáng)散射光和熒光可以以高光譜分辨率進(jìn)行分析。
亮點(diǎn)
在落射照明暗場顯微鏡下可以清晰地觀察到納米粒子的分布
具有線檢測光學(xué)器件和高像素 CCD 的超快速、高清晰度暗場光譜成像。
分散的納米粒子可以被檢測、計(jì)數(shù),并與光譜信息一起列出。
概覽
InFocus λ DS 暗場光譜成像顯微鏡是一款開創(chuàng)性的儀器,融合了暗場顯微鏡和高光譜成像能力。它允許觀察金屬納米粒子的分布以及它們的散射和熒光的光譜分析,在等離子體生物傳感器探索等領(lǐng)域的研究和開發(fā)中具有極大價值。
圖 1 所示為暗場顯微鏡的光學(xué)系統(tǒng)。利用環(huán)形光闌和環(huán)形反射鏡,它用環(huán)形白色 LED 光對角照射樣品。它消除了觀察中的背景光,并能夠在平坦的基板上觀察納米粒子和納米結(jié)構(gòu)。
圖 1:落射照明暗場顯微鏡
具有線檢測的超快速暗場光譜成像
InFocus λ DS 的主要特點(diǎn)是能夠進(jìn)行超快速和高清晰度的暗場光譜成像。例如,在用暗場顯微鏡觀察金屬納米粒子的分布時,可以選擇感興趣的區(qū)域并進(jìn)行光譜成像,以評估諸如表面等離子體增強(qiáng)散射光和表面等離子體激發(fā)增強(qiáng)熒光等光學(xué)響應(yīng)作為光譜。
線檢測暗場光譜成像的機(jī)制如圖 2 所示。光譜儀的狹縫方向用作空間信息,對特定的測量區(qū)域(線檢測)進(jìn)行單個 X 軸光譜測量。具有 256×1024 像素的電制冷 CCD 允許在空間和光譜方向上獲取大量數(shù)據(jù)。
圖 2:線檢測機(jī)制。測量區(qū)域內(nèi) X 軸上的 256 個點(diǎn)一次性進(jìn)行光譜測量。
圖 3:點(diǎn)檢測和線檢測測量時間的比較。
直觀的軟件和粒子分析功能
在暗場顯微鏡圖像中點(diǎn)擊感興趣的區(qū)域,即可查看該位置的光譜信息??梢赃x擇四種 ROI(感興趣區(qū)域)選擇模式——點(diǎn)、線、正方形和橢圓形——以顯示光譜,不包括額外的區(qū)域,并盡可能避免噪聲成分。
您還可以為光譜中的任何波段特定一種偽彩色,并可視化其強(qiáng)度分布。除了顯示所選波段的平均強(qiáng)度分布外,還有各種其他模式可用,例如使用 Cobell 方法顯示峰面積強(qiáng)度。
它還具有“粒子分析功能",通過應(yīng)用閾值檢測納米粒子,對粒子的數(shù)量進(jìn)行計(jì)數(shù)和編號,并自動提取每個粒子的平均光譜數(shù)據(jù),并將這些信息顯示在列表中。
此外,該系統(tǒng)足夠靈活,可以開發(fā)其他專門的功能以適應(yīng)用戶的數(shù)據(jù)分析目標(biāo)。
應(yīng)用
在利用金屬納米粒子的等離子體生物傳感器的研發(fā)中,用于納米結(jié)構(gòu)觀察的暗場顯微鏡和用于光學(xué)響應(yīng)研究的光譜學(xué)是不可缺失的。在此,我們利用暗場光譜成像顯微鏡,給出一個針對銀納米粒子的表面等離子體增強(qiáng)散射和熒光的暗場光譜分析示例。
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