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QNIX4200-鍍鋅層測(cè)厚
  • QNIX4200-鍍鋅層測(cè)厚

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更新時(shí)間:2024-07-31 21:00:06

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QNIX4200鍍鋅層測(cè)厚儀一體化/分體化設(shè)計(jì),只需調(diào)零,無(wú)需校準(zhǔn),使用其簡(jiǎn)單。其中QNix4200為磁性測(cè)厚儀,可以用來(lái)測(cè)量鋼、鐵等磁性基體上的涂層、鍍層;QNix4500為磁性和渦流兩用測(cè)厚儀,不僅可以用來(lái)測(cè)量鋼鐵等磁性基體,還可以用來(lái)測(cè)量鋁、銅、不銹鋼等非磁性金屬表面的涂層、氧化膜、磷化膜等覆層。這兩個(gè)型號(hào)操作簡(jiǎn)單,攜帶方便,精度高,為廣大用戶(hù)所喜愛(ài)。

QNIX4200鍍鋅層測(cè)厚儀是利用霍爾原理而設(shè)計(jì)的探頭與主機(jī)一體化式金屬涂層測(cè)厚儀。QNix4200涂層測(cè)厚儀用于測(cè)量鐵磁性基體(如鋼、鐵)上的涂層,如油漆、各種防腐層、粉噴涂等。


德國(guó)尼克斯涂層測(cè)厚儀 QNIX4200漆膜測(cè)厚儀 膜厚儀涂層測(cè)厚儀
將儀器探頭垂直接觸被測(cè)物的表面,儀器將自動(dòng)開(kāi)機(jī)并測(cè)得數(shù)據(jù)。注意:測(cè)量時(shí)務(wù)必要使探頭垂直接觸被測(cè)物表面。

德國(guó)尼克斯涂層測(cè)厚儀 QNIX4200漆膜測(cè)厚儀 膜厚儀涂層測(cè)厚儀

QNIX4200涂層測(cè)厚儀在測(cè)量前,為減少測(cè)量誤差,應(yīng)在基體上取零位作基準(zhǔn)。可以用沒(méi)有涂層的工件表面也可以用隨儀器帶基體。用儀器測(cè)量基體,如顯示0,表明已是零位,不用再調(diào)零。如不顯示0,則需要調(diào)零。將儀器探頭壓在調(diào)零板或未噴涂的工件表面上,不要抬起,按一下儀器上的紅鍵松開(kāi),聽(tīng)到響聲液晶顯示一組數(shù)后,拿開(kāi)儀器,再次聽(tīng)到響聲后,液晶顯示0,調(diào)零完畢。注意:由于工件表面粗糙度的原因,調(diào)零后,再測(cè)時(shí)不一定是**的零位,這是正常現(xiàn)象。


涂層測(cè)厚儀Fe/NFe探頭轉(zhuǎn)換
QNix4500為兩用探頭,當(dāng)測(cè)量不同的基體時(shí),需要對(duì)磁性模式(Fe)與非磁性模式(NFe)進(jìn)行轉(zhuǎn)換。在開(kāi)機(jī)狀態(tài)下,按紅鍵進(jìn)入菜單選項(xiàng),繼續(xù)按紅鍵選擇Fe或者Nfe選項(xiàng)短暫停留后,就已選擇相應(yīng)的測(cè)量模式,也可以選擇FeNfe選項(xiàng),短暫停留后就進(jìn)入自動(dòng)識(shí)別基體模式(推薦使用)!
菜單中Averaging為平均值選項(xiàng),在Averaging選項(xiàng)短暫停留后出現(xiàn)ON和OFF兩個(gè)選項(xiàng),在ON選項(xiàng)下短暫停留后進(jìn)入平均值測(cè)量模式,測(cè)量時(shí)所顯示讀數(shù)為*后三次讀數(shù)的平均值,在OFF選項(xiàng)下短暫停留后退出平均值測(cè)量模式。


德國(guó)尼克斯涂層測(cè)厚儀QNIX4200鍍鋅層測(cè)厚

參數(shù)

Fe:測(cè)量鐵磁性基體模式
NFe:測(cè)量非磁性基體模式
Err:操作失誤
INFI:探頭模式與被測(cè)基體不符
BAT:電量不足,需換電池

德國(guó)尼克斯涂層測(cè)厚儀 QNIX4200漆膜測(cè)厚儀 膜厚儀涂層測(cè)厚儀技術(shù)參數(shù)
磁性基體Fe探頭(4200/4500)
非磁性基體NFe探頭(4500)
測(cè)量范圍Fe:0-3000um/NFe:0-3000um
精度 0-50um:≤+/-1um, 50-1000um:≤+/-1.5%讀數(shù),1000-3000um≤+/-3%
*小接觸面 10×10mm
*小曲率半徑 凸面:3mm
凹面:25mm
*小機(jī)體厚度 Fe:0.2mm/NFe:0.05um
溫度補(bǔ)償范圍 -10℃-60℃
測(cè)量范圍 0℃-50℃
顯示 LCD液晶
探頭 紅寶石固定式
電源 2×1.5V干電池
尺寸 100×60×27mm
重量 105g


德國(guó)尼克斯涂層測(cè)厚儀 QNIX4200漆膜測(cè)厚儀 膜厚儀涂層測(cè)厚儀注意事項(xiàng)
測(cè)量應(yīng)為點(diǎn)接觸,嚴(yán)禁將探頭置于被測(cè)物表面滑動(dòng)。每次測(cè)量間隔時(shí)間應(yīng)大于幾秒鐘,且儀器應(yīng)離開(kāi)被測(cè)物10cm以上,再進(jìn)行下一次測(cè)量。



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